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勻膠旋涂儀主要用于液體，膠體在材料表面薄膜的形成，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工藝?？稍诳蒲校逃?，生產(chǎn)中應(yīng)用。勻膠旋涂儀主要用微細(xì)加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設(shè)備配合使用。
勻膠旋涂儀的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。一般來說，勻膠轉(zhuǎn)速快，時間長，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多，這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以*好給予勻膠過程以足夠的時間，讓諸多影響因素達(dá)到平衡。
華儀行提供的Ossila勻膠旋涂儀，操作簡單，方便實(shí)用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮?dú)?，就能達(dá)到很好的旋涂效果。
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