達(dá)因特等離子清洗機(jī)-針對LED表面處理及解決方案,測試的玻璃表面涂抹的膠水,但是不會影響Mini LED這種精密的產(chǎn)品,Mini LED表面各個位置的環(huán)氧樹脂厚度還是很均勻的。
LED的技術(shù)要求:
顧名思義,“Mini”中文名稱就是“迷你”的意思。如果說小顧名思義,“Mini”中文名稱就是“迷你”的意思。如果說小間距LED顯示屏重在點(diǎn)間距之間的“小”,那么Mini LED自然就是達(dá)到更小的級別,堪稱迷你這一級別了。如果我們追本溯源,將會發(fā)現(xiàn)Mini LED這個單詞,首先源自于晶電,目前晶電透露出來最新的有關(guān)Mini LED的消息,正是它的“可量產(chǎn)”進(jìn)程。
Mini LED是在小間距LED基礎(chǔ)上,衍生出來的一種新型LED顯示Mini LED是在小間距LED基礎(chǔ)上,衍生出來的一種新型LED顯示技術(shù),也被稱為亞毫米發(fā)光二極管,芯片尺寸介于50~200μm之間的LED器件。
LED顯示屏的技術(shù)要求:
Mini LED克服正裝芯片的打線及可靠性的缺陷,Mini LED克服正裝芯片的打線及可靠性的缺陷,同時(shí)結(jié)合COB封裝的優(yōu)勢,使顯示屏點(diǎn)間距進(jìn)一步縮小成為可能,對應(yīng)的終端產(chǎn)品的視覺效果大幅提升,同時(shí)視距能夠大幅減小,使得戶內(nèi)顯示屏能夠進(jìn)一步取代原有的LCD市場。
真空等離子原理介紹:
怎么產(chǎn)生等離子:
當(dāng)我們把固體冰加熱時(shí)會融化成液體水,水加熱會變成水蒸當(dāng)我們把固體冰加熱時(shí)會融化成液體水,水加熱會變成水蒸氣,氣體加熱到一定溫度或高壓電離時(shí)就會變?yōu)榈入x子體。
等離子產(chǎn)生原理:
電子離開原子核,物質(zhì)就變成了由帶正電的原子核和帶負(fù)電的電子組成的、一團(tuán)均勻的“漿糊”,這些離子漿中正負(fù)電荷總量相等,因此它是近似電中性的,所以就叫等離子體。等離子表面處理是通過對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子體,通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。
達(dá)因特等離子解決方案:
考慮因素一:在真等離子除膠蝕刻中,溫度對蝕刻考慮因素一:在真等離子除膠蝕刻中,溫度對蝕刻效率,起到非常關(guān)鍵的作用,所以腔體內(nèi)材料要耐高溫??紤]因素二:不同廠家的Mini LED,因?yàn)楣に嚥煌?,耐高溫程度不一樣,所以腔體可應(yīng)用通水冷,循環(huán)水達(dá)到控溫的功能??紤]因素三:在真空等離子除膠蝕刻的過程中,用到的工藝氣體,有氧氣、氮?dú)?、少量的四氟化碳,其中氧氣,四氟化碳的化學(xué)性質(zhì),具有氧化性和腐蝕性,所以腔體材料也要耐氧化,耐腐蝕??紤]因素四:Mini LED屬于非常精密的產(chǎn)品,所以對處理效果的均勻性要求也是非常高,通過多方面的測試驗(yàn)證,結(jié)合以往實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),設(shè)計(jì)出一款針對除膠行業(yè),放電均勻性非常高的真空等離子設(shè)備。
真空等離子對環(huán)氧樹脂起到的作用:
真空等離子在通入氧氣和氮?dú)庠偌由僬婵盏入x子在通入氧氣和氮?dú)庠偌由倭康乃穆然?,在放電情況下,能快速的蝕刻掉環(huán)氧樹脂。三.真空等離子會不會*破壞環(huán)氧樹脂?因?yàn)镸ini LED間隙和Mini LED表面,環(huán)氧樹脂有厚度差,所以真空等離子,會優(yōu)先蝕刻Mini LED芯片表面上的環(huán)氧樹脂。使Mini LED發(fā)光更亮,增加清晰度。
1.在四層電極板,分別放置在三個位1.在四層電極板,分別放置在三個位置上,一共測試12組數(shù)據(jù),進(jìn)行整理分析。2.從圖表可看出,蝕刻速率最大的是200A/S,蝕刻速率最小為173A/S,兩者之間相差27A/S。差距不明顯,相對總體數(shù)據(jù),還是很均勻的。原因分析:測試的玻璃表面涂抹的膠水,是人工涂抹,每片之間厚度很難保持一致,玻璃表面涂抹的膠水也是不平整的,這些都會造成數(shù)據(jù)的偏差。但是不會影響Mini LED這種精密的產(chǎn)品,Mini LED表面各個位置的環(huán)氧樹脂厚度還是很均勻的。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。