激光直寫是制作衍射光學(xué)元件的主要技術(shù)之一,它利用強(qiáng)度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光,顯影后便在抗蝕層表面形成要求的浮雕輪廓。激光直寫技術(shù)主要用于制作平面計(jì)算全圖、掩模、微透鏡、微透鏡陣列、Fresnel微透鏡、Fresnel波帶板、連續(xù)位相浮雕的閃耀光學(xué)元件等,制作工藝己經(jīng)逐漸成熟。
激光直寫是利用強(qiáng)度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光,顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫系統(tǒng)的基本工作原理是由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束掃描,在光刻膠上直接曝光寫出所設(shè)計(jì)的任意圖形,從而把設(shè)計(jì)圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。激光直寫系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)主要由He-Cd激光器、聲光調(diào)制器、投影光刻物鏡、CCD攝像機(jī)、顯示器、照明光源、工作臺、調(diào)焦裝置、He-Ne激光干涉儀和控制計(jì)算機(jī)等部分構(gòu)成。激光直寫的基本工作流程是:用計(jì)算機(jī)產(chǎn)生設(shè)計(jì)的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩摸結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù);將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成直寫系統(tǒng)控制數(shù)據(jù),由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光;經(jīng)顯影和刻蝕將設(shè)計(jì)圖形傳遞到基片上。
桌面級三維激光直寫設(shè)備是緊湊型、桌?級、經(jīng)濟(jì)型設(shè)計(jì),基于多光?聚合原理,實(shí)現(xiàn)納?級精度三維結(jié)構(gòu)加?。
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