臺式離子研磨拋光儀 SEMPrep2 作為新一代的高精密氬離子研磨系統(tǒng),可以滿足研究人員苛刻的研磨需求。集成式多功能截面拋削以及無損平面拋光系統(tǒng),為 SEM 以及 EBSD 用戶提供好的制樣助力。
臺式離子研磨拋光儀的研磨系統(tǒng)主要由以下幾個部分組成:
1.研磨盤:研磨盤是臺式離子研磨拋光儀的核心部件,通常由金屬材料制成,表面具有一定的粗糙度。研磨盤上可以安裝研磨紙或研磨布,用于進行研磨和拋光操作。
2.研磨液供給系統(tǒng):研磨液供給系統(tǒng)用于提供研磨液,研磨液通常由水和研磨劑混合而成。研磨液的作用是冷卻研磨盤和樣品,同時還可以起到清潔和潤滑的作用。
3.研磨頭:研磨頭是連接研磨盤和樣品的部件,通常由金屬材料制成。研磨頭可以調(diào)節(jié)研磨盤和樣品之間的接觸力和研磨速度,以達到不同研磨要求。
4.控制系統(tǒng):控制系統(tǒng)用于控制研磨盤和樣品的運動,包括研磨盤的轉(zhuǎn)速、樣品的旋轉(zhuǎn)和移動等。控制系統(tǒng)還可以設(shè)置研磨時間和研磨力度等參數(shù),以滿足不同的研磨需求。
5.真空系統(tǒng):真空系統(tǒng)用于在研磨過程中排除空氣,以減少樣品表面的氧化和污染。真空系統(tǒng)通常包括真空泵和真空室,可以通過控制真空度來調(diào)節(jié)研磨過程中的氣氛。
6.監(jiān)測系統(tǒng):監(jiān)測系統(tǒng)用于監(jiān)測研磨過程中的參數(shù),如研磨力度、研磨速度、研磨溫度等。監(jiān)測系統(tǒng)可以通過傳感器和儀器來實現(xiàn),可以實時監(jiān)測和記錄研磨過程中的數(shù)據(jù)。
以上就是臺式離子研磨拋光儀的研磨系統(tǒng)的主要組成部分,不同廠家和型號的儀器可能會有所差異,但基本原理和功能是相似的。
相關(guān)產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。