離子濺射儀新品推薦
———天澤智能科技發(fā)展(天津)有限責任公司
TZZN-200離子濺射儀結(jié)構(gòu)及濺射原理
(tzzn-200型)
整體含濺射主機和真空系統(tǒng)組成,濺射靶頭被設(shè)置成為一個二級濺射結(jié)構(gòu),通過均勻恒定的電場激發(fā)并電離氣體分子,形成穩(wěn)定的輝光放電現(xiàn)象,被電離的離子和電子在這個電場下進行加速,從而使靶原子逃離靶材表面在樣品上面形成納米涂層(如圖一)。
圖一
對原有產(chǎn)品的改進和升級改造
改造前的濺射源(靶頭)TZZN-200/100
改造后的濺射源(靶頭)TZZN-1000/CK/STX型
增加了一個恒定的磁場形成磁控約束方式,在輝光放電的過程中,帶電粒子在原來的電場加速狀態(tài)下,附加一個恒定的用磁場,利用帶電粒子的特性,從而達到約束粒子運動的方向,改變原有的運動,改善濺射源的工作效率。
外加磁場的設(shè)置方式可根據(jù)不同的需求進行改變,經(jīng)過試驗天澤智能科技發(fā)展(天津)有限責任公司采取沉浸式的磁控方式,這種方式的優(yōu)勢,對于控制離子的運動和靶材的利用改善。
其他的升級和便利化設(shè)計,也都在天澤智能科技發(fā)展(天津)有限責任公司的廣大客戶幫助下進行便利化,通用化的改造升級。
如下:
1.增加的靶頭的鉸鏈結(jié)構(gòu)
2. 升降樣品臺結(jié)構(gòu)設(shè)計
3. 電子計時的升級
4.外觀優(yōu)化
5.增加自動放氣系統(tǒng)
6.改善密封系統(tǒng)更好的保護樣品室
通過系統(tǒng)化的改造升級,天澤智能科技發(fā)展(天津)有限責任公司推出新型的TZZN-1000磁控離子濺射儀,并在此基礎(chǔ)上不斷地改進,目前相繼推出了定制的直徑達到125毫米超大濺射靶頭濺射儀,為了避免氧化反應(yīng)的專用手套箱離子濺射儀等,歡迎廣大新老朋友咨詢和來樣檢測。
通過掃描電子顯微鏡圖片分析,天澤智能科技發(fā)展(天津)有限責任公司新推出的TZZN-100/1000系列,高分辨大倍率的圖像下鍍膜的均勻性可以媲美同類型的進口產(chǎn)品。
截止目前我公司的200型離子濺射單臺穩(wěn)定使用時間已經(jīng)長達10年,新品離子濺射儀在繼承高穩(wěn)定、高可靠性的前提下,更加契合新老朋友的需求,同時也感謝多年以來對我司的支持和理解。
天澤智能科技發(fā)展天津有限責任公司
相關(guān)產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。