離子精修儀和低能離子槍有效去除FIB制樣產(chǎn)生的非晶層和損傷層
離子精修儀和低能離子槍有效去除FIB制樣產(chǎn)生的非晶層和損傷層
前面我們介紹了FIB制樣是透射電鏡中常用的制樣方法,但是使用離子束時(shí)可能會(huì)引起一些意想不到的樣品損傷,改變了樣品表面的特性,產(chǎn)生的非晶層或損傷層在使用 FIB 系統(tǒng)制備的 TEM 樣品中非常明顯,可能會(huì)影響到最終的觀察結(jié)果。
常用的FIB 制樣缺陷解決方案有三種方法:
1.氣體輔助蝕刻;
2.低能量 FIB;
3.氬離子研磨精修;
本文主要介紹通過(guò)氬離子精修儀和低能離子槍(LEG to FIB)兩種技術(shù)來(lái)修復(fù)非晶層問(wèn)題的解決方案
氬離子研磨精修非晶層
使用低加速電壓的氬離子束對(duì)經(jīng)過(guò) FIB 處理的樣品進(jìn)行精修是處理非晶層的一種高效的解決方法。相比高電壓,氬離子束在較低電壓下操作,從而減少了可能造成的損傷。這種方法可用于進(jìn)一步減薄樣品,并去除表面的非晶層,有助于保留樣品原始的結(jié)構(gòu)和特性。
方法 1 :離子精修儀
離子精修儀是采用氬離子束,專為最終拋光、精修和改善 FIB 處理后的樣品而設(shè)計(jì)。 離子精修儀比較適合要求樣品無(wú)加工痕跡、表面幾乎沒(méi)有任何損壞的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用戶。
離子精修儀
Gentle Mill 采用低能氬離子槍(離子能量:100 - 2000 eV,連續(xù)可調(diào)),內(nèi)置工業(yè)級(jí)計(jì)算機(jī),簡(jiǎn)單便捷的圖形界面和圖像分析模塊,高度自動(dòng)化的操作機(jī)制,最大限度地減少人工干預(yù)。Gentle Mill 對(duì)在各種 FIB 制備的樣品進(jìn)行低能量氬離子研磨顯著降低了損傷層的厚度。
應(yīng)用案例分享
使用離子精修儀在 300V, 15° 條件下處理 5 min 后,可以明顯地看到非晶層的減少。
去除 FIB 導(dǎo)致的表面非晶層的完整過(guò)程:(a) 是通過(guò) 30 kV FIB 處理樣品的 HRTEM 圖像。(b-d) 是連續(xù)低能氬離子處理后的 HRTEM 結(jié)果。
FIB 薄片,低能離子槍能有效消除所有非晶層和損壞層。
方法2:低能氬離子槍(LEG)集成搭載至 FIB
另外一種能夠?qū)崟r(shí)進(jìn)行樣品處理的方案。即通過(guò)將低能氬離子槍(LEG)集成搭載到 FIB 設(shè)備中。低能氬離子槍(LEG)適用于表面減薄、表面處理后的后處理、清潔以及去除無(wú)定形和氧化物表面層,由此實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品進(jìn)行最終拋光和溫和的表面清潔。
低能量氬離子槍(LEG),直徑和長(zhǎng)度均為 50 mm,能量范圍為:100 eV - 2000 eV。
低能量氬離子槍(LEG) 可集成到 FIB 設(shè)備,帶波紋管的傳輸系統(tǒng)可通過(guò)連接管安裝到設(shè)備上。通線性傳輸系統(tǒng)提供的離子源流動(dòng)性,從而實(shí)現(xiàn)氬離子的精修處理。
應(yīng)用案例分享
經(jīng) FIB 處理過(guò)后的藍(lán)寶石薄片
經(jīng) LEG 清潔的同一塊藍(lán)寶石 FIB 薄片
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。