光學(xué)3D表面輪廓儀&共聚焦顯微鏡:助力半導(dǎo)體行業(yè)走向新質(zhì)生產(chǎn)力時代
新質(zhì)生產(chǎn)力不僅僅是生產(chǎn)效率和成本控制的提升,更重要的是通過創(chuàng)新和技術(shù)升級,從而實現(xiàn)生產(chǎn)過程智能化、個性化、和高質(zhì)量化。傳統(tǒng)的生產(chǎn)模式正在被改變,而半導(dǎo)體行業(yè)作為高科技產(chǎn)業(yè)的代表之一,更是迫切需要適應(yīng)這一變革。
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展和智能制造的推動,半導(dǎo)體制造過程中,對尺寸、形狀和表面質(zhì)量的檢測至關(guān)重要。而顯微測量儀的高精度、高分辨率的測量能力,為半導(dǎo)體行業(yè)提供了強(qiáng)大的支持。
SuperViewW光學(xué)3D表面輪廓儀結(jié)合機(jī)械制造、計算機(jī)技術(shù)、圖像出處理技術(shù),以非接觸的掃描方式,實現(xiàn)針對樣品表面的高重復(fù)精度的3D測量,獲取樣品表面質(zhì)量的2D、3D數(shù)據(jù)。
儀器集合PSI高精度&VSI大范圍雙重優(yōu)點的EPSI掃描算法,從0.1nm級別的超光滑表面到數(shù)十微米級別的粗糙表面,都能實現(xiàn)高精度測量。此外具有的同步分析與預(yù)編程分析功能,實現(xiàn)了分析過程的所見即所得,測量到分析的一鍵式操作,有效縮減操作步驟。
VT6000共聚焦顯微鏡以針孔共聚焦技術(shù)為原理,結(jié)合高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)設(shè)計和優(yōu)異的3D重建算法,可對各種精密器件及材料表面進(jìn)行微納米級粗糙度、微觀幾何輪廓等的測量。在半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測中,對大傾角產(chǎn)品有更好的成像效果。
在芯片制造的各個環(huán)節(jié),顯微測量儀用于檢測半導(dǎo)體芯片和晶圓的尺寸和形狀,提供準(zhǔn)確的尺寸測量,滿足半導(dǎo)體制造過程中對尺寸、形狀和表面質(zhì)量更嚴(yán)格的要求,幫助制造商及時發(fā)現(xiàn)和糾正任何偏差;在表面質(zhì)量的評估和缺陷檢測方面,顯微測量儀可以檢測微小的表面缺陷和污染,確保產(chǎn)品的表面質(zhì)量達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)要求,提高產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性。
我們有理由相信,在新技術(shù)和新思維的推動下,顯微測量儀將使半導(dǎo)體行業(yè)邁向更加智能化、高效化和可持續(xù)化的未來。
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