Phenom MAPS:為何材料研究人員都在悄悄使用這款軟件?
Phenom MAPS 多模態(tài)多維度地圖式圖像自動(dòng)采集及拼接軟件,可自動(dòng)獲取大型圖像數(shù)據(jù)集,并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式,從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
該軟件支持 Phenom 全系列臺(tái)式掃描電子顯微鏡型號(hào),包括 Phenom XL G2、Phenom Pharos G2 和 Phenom ProX。歡迎聯(lián)系我們升級(jí)體驗(yàn)。
01 MAPS 核心功能
大面積自動(dòng)數(shù)據(jù)采集:實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化無(wú)縫全景拼圖和大面積 EDS 能譜數(shù)據(jù)采集
CISA 多平臺(tái)數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)功能:光鏡、拉曼、紅外、XPS,甚至 CAD 或手繪草圖,通通可以關(guān)聯(lián)
多尺度成像自動(dòng)化:軟件提供全自動(dòng)的高質(zhì)量、多尺度成像解決方案
跨平臺(tái)設(shè)備連接:不同設(shè)備之間可以進(jìn)行以樣品為中心的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)處理工作
離線數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)管理:MAPS 軟件的離線版本方便您隨時(shí)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理并規(guī)劃下一次成像工作
02 MAPS 自動(dòng)數(shù)據(jù)采集功能
用戶可以在各種樣本上設(shè)置和運(yùn)行多個(gè)圖塊集,實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化、無(wú)人值守的儀器作業(yè),優(yōu)化設(shè)備操作時(shí)間,獲取高質(zhì)量數(shù)據(jù)。
自動(dòng)數(shù)據(jù)采集技術(shù)讓您無(wú)需花費(fèi)數(shù)小時(shí)搜索感興趣的區(qū)域,可以快速輕松拍攝大面積拼圖的同時(shí)還能夠自動(dòng)收集選定區(qū)域的高分辨率數(shù)據(jù)。
案例1 銀在傷口敷料中的分布情況
含銀的傷口敷料是一種先進(jìn)的愈合技術(shù),利用銀的抗菌特性來(lái)預(yù)防感染。
這些敷料由包括傷口墊的多層組成,傷口墊含有銀,由吸收液體的無(wú)紡布聚合物纖維制成。這些纖維通過(guò)聚乙烯網(wǎng)膜與傷口隔開(kāi),防止傷口墊粘在傷口上。
含銀的傷口墊可防止感染
無(wú)縫全景拼圖:大面積 SEM 傷口敷料拼圖穿孔網(wǎng)膜后面是聚合物纖維
此類敷料的有效性取決于銀的物理和化學(xué)特性以及銀在敷料中的分布情況。如果銀離子濃度過(guò)高,則離子可能會(huì)從敷料中釋放出來(lái)并導(dǎo)致細(xì)胞毒性作用。
利用飛納臺(tái)式掃描電鏡的 MAPS 軟件可以創(chuàng)建高分辨率 EDS 圖,顯示銀在傷口敷料中的分布情況。如下圖所示,銀(以粉紅色顯示)排列在聚乙烯網(wǎng)的邊緣。這可以表征敷料的質(zhì)量及其與銀離子控制釋放的關(guān)系。
小面積 EDS 圖與 MAPS 軟件中大面積敷料能譜拼圖,粉色顯示了銀的分布
案例2礦物-大面積能譜拼圖分析
與傳統(tǒng)技術(shù)相比,Phenom MAPS 軟件可以幫助您更快地獲取低倍率、大面積的 EDS 能譜圖,從而直觀地顯示整個(gè)樣品中的元素分布。(以礦物樣品分析為例)
數(shù)據(jù)收集后,通過(guò) Phenom MAPS 軟件進(jìn)行進(jìn)一步的定量 EDS 分析。
MAPS 大面積能譜拼圖結(jié)果
支持離線數(shù)據(jù)處理:將 EDS 數(shù)據(jù)導(dǎo)入 Phenom 臺(tái)式掃描電鏡的 UI 中
此外,Phenom MAPS 軟件的離線功能可以幫您將數(shù)據(jù)從設(shè)備中導(dǎo)出并在任意一臺(tái) PC 中隨時(shí)進(jìn)行數(shù)據(jù)分析。您可以在 MAPS 軟件中標(biāo)注數(shù)據(jù)并選擇新的區(qū)域進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。該軟件還可以進(jìn)行多個(gè)數(shù)據(jù)集的大視野圖像自動(dòng)拼接和導(dǎo)出,提供多種拼接算法和導(dǎo)出選項(xiàng),可以導(dǎo)出 RAW、tile TIFF 或 HD 視圖的兼容格式。
03 關(guān)聯(lián)一切可視化圖片
光鏡、拉曼、紅外、XPS,甚至 CAD 或手繪草圖,通通可以關(guān)聯(lián)。下圖案例:通過(guò) MAPS CISA,將 SEM 和 XPS 面分布以及全譜分析的功能相結(jié)合,分析多孔砂粒子的表面組成和形貌。
通過(guò)結(jié)合 XPS 和 SEM 的分析,可以精確地將化學(xué)信息與顯微鏡提供的高分辨率結(jié)構(gòu)信息融合。CISA 關(guān)聯(lián)工作流程尤其適用于研究電池、高分子材料、催化劑和金屬等樣品的材料研究。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。