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          從“制造”到“智造”:中圖光學(xué)測(cè)量?jī)x器的進(jìn)階與應(yīng)用

          來(lái)源:深圳市中圖儀器股份有限公司   2024年10月12日 08:51  

          在當(dāng)今全球化和科技快速發(fā)展的時(shí)代,制造業(yè)正經(jīng)歷著從傳統(tǒng)的“制造”模式向智能化的“智造”模式的深刻轉(zhuǎn)變。消費(fèi)者對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量和個(gè)性化的要求越來(lái)越高,產(chǎn)品的更新?lián)Q代速度加快,傳統(tǒng)的制造模式難以滿足這些需求。

          例如,在半導(dǎo)體芯片制造領(lǐng)域,隨著芯片制程的不斷縮小,對(duì)芯片表面的平整度和粗糙度等微觀幾何特征的要求越來(lái)越高。同時(shí),3C電子行業(yè)的快速發(fā)展也促使產(chǎn)品更新?lián)Q代加速,對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量和個(gè)性化的要求也日益嚴(yán)苛。同時(shí),勞動(dòng)力成本上升、原材料價(jià)格波動(dòng)等因素也給制造業(yè)帶來(lái)了巨大的壓力。

          在這種背景下,制造業(yè)必須轉(zhuǎn)型升級(jí),實(shí)現(xiàn)智能化生產(chǎn),提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量,降低成本,增強(qiáng)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。這一轉(zhuǎn)變不僅是技術(shù)的革新,更是適應(yīng)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)和滿足社會(huì)需求的必然選擇。在這個(gè)過(guò)程中,先進(jìn)的測(cè)量?jī)x器起著至關(guān)重要的作用,它們?yōu)橹圃鞓I(yè)提供了精確的數(shù)據(jù)支持和質(zhì)量保障。


          從“制造”到“智造”,中圖光學(xué)測(cè)量?jī)x器為提高產(chǎn)品質(zhì)量和推動(dòng)行業(yè)發(fā)展提供有力的技術(shù)支持。

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          1、SuperView W1光學(xué)3D表面輪廓儀

          (1)產(chǎn)品特點(diǎn)與應(yīng)用

          SuperView W1光學(xué)3D表面輪廓儀以其先進(jìn)的白光干涉技術(shù)在精密測(cè)量領(lǐng)域脫穎而出。它能夠?qū)Ω鞣N精密器件及材料表面進(jìn)行亞納米級(jí)測(cè)量,單一掃描模式即可滿足從超光滑到粗糙、鏡面到全透明或黑色材質(zhì)等所有類型樣件表面的測(cè)量,可測(cè)各類從納米到微米級(jí)別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。在半導(dǎo)體制造中,它可以精確測(cè)量芯片表面的微觀幾何特征,為芯片制造工藝的優(yōu)化提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支持,確保芯片在更小制程下的性能和穩(wěn)定性。

          (2)助力“智造”轉(zhuǎn)型

          該儀器的高效測(cè)量功能,如單區(qū)域自動(dòng)測(cè)量、多區(qū)域自動(dòng)測(cè)量、自動(dòng)拼接測(cè)量和編程測(cè)量等,大大提高了測(cè)量效率,符合智能化生產(chǎn)對(duì)高效檢測(cè)的要求。同時(shí),其精準(zhǔn)的數(shù)據(jù)處理與分析能力,包括位置調(diào)整、去噪、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能以及粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能,能夠獲取準(zhǔn)確的2D、3D參數(shù),為產(chǎn)品質(zhì)量控制和生產(chǎn)工藝優(yōu)化提供了有力依據(jù)。

          2、VT6000共聚焦顯微鏡

          (1)產(chǎn)品特點(diǎn)與應(yīng)用

          VT6000系列共聚焦顯微鏡采用共聚焦技術(shù),為精密器件及材料表面的微納米級(jí)測(cè)量提供了可靠的解決方案。它具備3D測(cè)量功能,能夠表征微觀3D形貌的輪廓尺寸及粗糙度測(cè)量功能,提供更全面的表面形貌信息。在光學(xué)加工領(lǐng)域,它可以精確測(cè)量光學(xué)鏡片的表面粗糙度和微觀幾何輪廓,確保光學(xué)鏡片的光學(xué)性能符合高標(biāo)準(zhǔn)要求。

          (2)助力“智造”轉(zhuǎn)型

          除了3D測(cè)量功能外,它還具備影像測(cè)量功能可進(jìn)行長(zhǎng)度、角度、半徑等尺寸測(cè)量,以及自動(dòng)拼接功能能夠?qū)崿F(xiàn)大區(qū)域的拼接縫合測(cè)量。這些功能與精準(zhǔn)的數(shù)據(jù)處理與分析能力,包括調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能以及粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能相結(jié)合,確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性,為生產(chǎn)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量提升提供了重要支持,推動(dòng)制造業(yè)向智能化邁進(jìn)。

          3、SuperView WT3000復(fù)合型光學(xué)3D表面輪廓儀

          (1)集合優(yōu)點(diǎn)

          ·測(cè)量模式的集成:當(dāng)測(cè)量超光滑和透明的表面形貌時(shí),可使用白光干涉模式的高精度測(cè)量能力,可獲得高精度無(wú)失真的圖像并進(jìn)行粗糙度等參數(shù)的分析;當(dāng)測(cè)量有尖銳角度的粗糙表面特征時(shí),使用共聚焦顯微鏡模式的大角度測(cè)量能力,可實(shí)現(xiàn)大角度的3D形貌圖像重構(gòu)。

          ·廣泛的測(cè)量范圍:能夠?qū)某饣酱植?、低反射率到高反射率的物體表面進(jìn)行測(cè)量,涵蓋了SuperView W1和VT6000的測(cè)量范圍,可測(cè)各類從納米到微米級(jí)別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。

          ·精準(zhǔn)的數(shù)據(jù)處理與分析:提供位置調(diào)整、去噪、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能,以及粗糙度分析、幾何輪廓分析、動(dòng)態(tài)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能,與SuperView W1和VT6000的數(shù)據(jù)處理和并行的功能相似,確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。

          (2)應(yīng)用優(yōu)勢(shì)

          ·滿足多樣化需求:無(wú)論是在半導(dǎo)體制造、光學(xué)加工等超精密加工行業(yè),還是在航空航天、科研院所等領(lǐng)域,都能滿足對(duì)精密器件及材料表面進(jìn)行測(cè)量的需求。在當(dāng)前半導(dǎo)體芯片制造對(duì)微觀幾何特征要求高的背景下,它能提供全面準(zhǔn)確的測(cè)量,確保芯片質(zhì)量。

          ·提供全面的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn):可提供依據(jù)ISO/ASME/EUR/GBT四大國(guó)內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn)共計(jì)300余種2D、3D參數(shù)作為評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn),為產(chǎn)品質(zhì)量的評(píng)估提供了全面的依據(jù),符合不同行業(yè)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量評(píng)估的規(guī)范要求。


          這三款光學(xué)測(cè)量?jī)x器能夠精確測(cè)量產(chǎn)品表面的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓等參數(shù),為產(chǎn)品質(zhì)量的控制提供了準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)支持;測(cè)量不同階段產(chǎn)品的表面形貌,為生產(chǎn)工藝的優(yōu)化提供數(shù)據(jù)依據(jù);通過(guò)提高產(chǎn)品質(zhì)量和優(yōu)化生產(chǎn)工藝,制造商可以降低產(chǎn)品的廢品率和返工率,從而降低生產(chǎn)成本。同時(shí),這三款儀器的高效測(cè)量功能也可以提高測(cè)量效率,減少測(cè)量時(shí)間和人力成本。在當(dāng)前制造業(yè)競(jìng)爭(zhēng)激烈,成本控制至關(guān)重要的情況下,這三款儀器為企業(yè)提供了有效的成本控制手段。


          例如在3C電子行業(yè),通過(guò)精確測(cè)量手機(jī)屏幕玻璃的粗糙度和微觀幾何輪廓,可以確保屏幕的顯示效果和觸感。通過(guò)對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)的分析,制造商可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品存在的問(wèn)題,采取相應(yīng)的措施進(jìn)行改進(jìn),從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。

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          在半導(dǎo)體制造中,通過(guò)測(cè)量芯片表面在不同工藝階段的粗糙度和微觀幾何輪廓,可以優(yōu)化光刻、蝕刻等工藝,提高芯片的制造質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

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          從“制造”到“智造”是制造業(yè)發(fā)展的必然趨勢(shì),先進(jìn)的測(cè)量?jī)x器是實(shí)現(xiàn)這一轉(zhuǎn)變的重要支撐。在未來(lái)的制造業(yè)發(fā)展中,這些測(cè)量?jī)x器將不斷創(chuàng)新和發(fā)展,為制造業(yè)的智能化升級(jí)提供更強(qiáng)大的動(dòng)力。

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