Solaris Eclipse 快速退火爐系統(tǒng)SS
- 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Solaris Eclipse
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/5/17 8:23:23
- 訪問(wèn)次數(shù) 1450
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勻膠機(jī)，光刻機(jī)，顯影機(jī)，等離子清洗機(jī)，紫外臭氧清洗機(jī)，紫外固化箱，壓片機(jī)，等離子去膠機(jī)，刻蝕機(jī)，加熱板
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
|---|
美國(guó)RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%，處理的大尺寸可以達(dá)到200mm，溫度可以達(dá)到1200攝氏度，處理過(guò)程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行，做多可支持4~6路進(jìn)氣，可以用到的氣體包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。
- 處理時(shí)間：0.1秒至無(wú)*；
- 燈管數(shù)量及功率：13支，
- 腔體冷卻：風(fēng)冷方式；
- 襯底冷卻：氮?dú)獯祾撸?/span>
- 工藝氣路：MFC控制，多6路 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?/span>)；
應(yīng)用領(lǐng)域：
快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
硅化 (Silicidation);
擴(kuò)散 (Diffusion);
化合物半導(dǎo)體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
離子注入后退火 (Implant Annealing);
電極合金化 (Contact Alloying);
晶向化和堅(jiān)化 (Crystallization and Densification);
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