FE-300 膜厚量測(cè)儀
- 公司名稱 大塚電子(蘇州)有限公司
- 品牌 OTSUKA/日本大冢
- 型號(hào) FE-300
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2020/8/6 11:26:50
- 訪問(wèn)次數(shù) 1279
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zeta電位?粒徑?分子量測(cè)量系統(tǒng),晶圓在線測(cè)厚系統(tǒng),線掃描膜厚儀,顯微分光膜厚儀,線掃描膜厚儀,分光干涉式晶圓膜厚儀,相位差膜?光學(xué)材料檢測(cè)設(shè)備,非接觸光學(xué)膜厚儀,小角激光散射儀,多檢體納米粒徑量測(cè)系統(tǒng),量子效率測(cè)量系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,電子,汽車,綜合 |
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產(chǎn)品信息 特 長(zhǎng) 薄膜到厚膜的測(cè)量范圍、UV~NIR光譜分析 高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜量測(cè)儀 藉由反射率光譜分析膜厚 完整繼承FE-3000機(jī)種90%的強(qiáng)大功能 無(wú)復(fù)雜設(shè)定,操作簡(jiǎn)單,短時(shí)間內(nèi)即可上手 線性小平方法解析光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù)) 測(cè)量項(xiàng)目
產(chǎn)品規(guī)格
選配功能 |
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※1 請(qǐng)于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
※2 對(duì)比VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書所記載
※3 測(cè)量VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm SiO2/Si)同一點(diǎn)位時(shí)之重復(fù)再現(xiàn)性。(擴(kuò)充系數(shù)2.1)
應(yīng)用范圍
半導(dǎo)體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
光學(xué)薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)
測(cè)量范例
PET基板上的DLC膜