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          NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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          本公司主要從事半導(dǎo)體進(jìn)口設(shè)備及輔助材料、醫(yī)療檢測(cè)設(shè)備等多領(lǐng)域的銷售,是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的企業(yè)。我們的主營(yíng)業(yè)務(wù)涉及了研發(fā)銷售及加工材料及周邊產(chǎn)品;電子光電產(chǎn)品設(shè)備研發(fā)組裝及銷售,半導(dǎo)體儀器設(shè)備銷售;國(guó)內(nèi)貿(mào)易、貨物及技術(shù)進(jìn)出口;醫(yī)療器械研發(fā)及銷售;醫(yī)用耗材及醫(yī)療用品的銷售等

          NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述:NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4DLC薄膜到可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵,腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有無(wú)二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無(wú)論是等離子強(qiáng)度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份,這樣系統(tǒng)可以覆蓋的可能性來(lái)獲得各種沉積參數(shù)。

          NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用:

          1. 等離子誘導(dǎo)表面改性:就是通常所說(shuō)的用等離子實(shí)現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)

          2. 等離子清洗:去除有機(jī)污染物

          3. 等離子聚合:對(duì)材料表面產(chǎn)生聚合反應(yīng)

          4. 沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類金剛石),以及其它薄膜

          5. CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長(zhǎng):在需要的位置生長(zhǎng)CNT或石墨烯。

          NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn):

          • 緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng)

          • 不銹鋼或鋁制腔體

          • 極限真空可達(dá)10-7Torr

          • RF淋浴頭,HCD或微波等離子源

          • 高達(dá)12”(300mm)直徑的樣品臺(tái)

          • RF射頻偏壓樣品臺(tái)

          • 水冷樣品臺(tái)

          • 可加熱到的800 °C樣品臺(tái)

          • 加熱的氣體管路

          • 加熱的液體傳送單元

          • 抗腐蝕的渦輪分子泵組

          • 1路載體氣體以及3路反應(yīng)氣體,帶MFC

          • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制

          • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問(wèn)保護(hù)




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