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MS450實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備PX 5032
EB700高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2729
FL-800N物理氣相沉積設(shè)備(PVD)冷水機(jī)-冷卻系統(tǒng)PX 6514
EC400蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 5032
EC400蒸發(fā)鍍膜機(jī)PX 5032
EC400熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 5032
MS450磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 5032
MS450多功能鍍膜設(shè)備PX 5032
MS450鈣鈦礦鍍膜設(shè)備PX 5032
MS450科研鍍膜機(jī)PX 5032
MS450實(shí)驗(yàn)室鍍膜機(jī)PX 5032
MS450小型鍍膜設(shè)備PX 5032
MS450真空鍍膜設(shè)備PX 5032
MS450小型真空鍍膜機(jī)PX 5032
MS450鍍膜設(shè)備PX 5032
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 5032
EC400有機(jī)-金屬真空熱蒸鍍儀PX 5032
PRO Line PVD 200多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)PX 1800
CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 1800
LAB Line磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 1800
NANO 36™濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
Mini SPECTROS沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1800
SPECTROS™ 150有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1800
Super-SPECTROS™ 200有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)PX 1800
EB900高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
NEXUS IBD-LDD離子束沉積設(shè)備PX 1800
PVD-BATCH DRUM薄膜沉積PVD設(shè)備PX 1800
COVAP科瓦普物理氣相沉積平臺(tái)PX 1800
NEXDEPAE物理氣相沉積平臺(tái)PX 1800
Amod物理氣相沉積平臺(tái)PX 1800
埃沃維克EvoVac 物理氣相沉積平臺(tái)PX 1800
eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1800
EC400高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 1800
Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1800
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 1800
Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1800
DZ450高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
KaRon 設(shè)備部件鍍膜設(shè)備PX 1800
DZ350高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
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有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
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