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          原子層沉積設(shè)備2

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
          • 品牌 其他品牌
          • 型號(hào)
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 代理商
          • 更新時(shí)間 2024/10/10 9:28:24
          • 訪問(wèn)次數(shù) 131

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          北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷售的新型高科技公司,也專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,以專業(yè)能力導(dǎo)向,精細(xì)工藝流程,用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫(xiě)新篇章。

          公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口、顯微鏡*冷光源、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng)、測(cè)量顯微鏡、三座標(biāo)測(cè)量顯微鏡,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)

          公司經(jīng)銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國(guó)產(chǎn)各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯(lián), sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,天美愛(ài)丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

          代理經(jīng)銷的產(chǎn)品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,全自動(dòng)切片掃描,三維超景深顯微系統(tǒng),動(dòng)物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,形貌探測(cè)顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動(dòng)數(shù)字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,國(guó)產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),按需搭建顯微系統(tǒng),熒光光譜儀,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)


          公司成立伊始,即本著“以人為本,誠(chéng)信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,快樂(lè)中結(jié)識(shí)新朋友,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專業(yè)技術(shù)人員、營(yíng)銷人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍,竭誠(chéng)為廣大客戶提供包括技術(shù)咨詢、產(chǎn)品配套、安裝調(diào)試、應(yīng)用指導(dǎo)、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù)。同時(shí)公司還依托中國(guó)地質(zhì)研究院、清華大學(xué)、中國(guó)農(nóng)業(yè)大學(xué)、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持。

          公司儲(chǔ)備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù)。公司管理層、營(yíng)銷隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn),相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無(wú)法可比的。

          北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業(yè)的人員,過(guò)硬的技術(shù),優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,為您提供專業(yè)、及時(shí)、周到的技術(shù)服務(wù),北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












          顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統(tǒng),DNA/RNA合成儀,半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,生命科學(xué)儀器,光刻機(jī),

          價(jià)格區(qū)間 50萬(wàn)-100萬(wàn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

          原子層沉積設(shè)備(ALD)為一種氣相化學(xué)沉積技術(shù)。大多數(shù)的ALD反應(yīng),將使用兩種化學(xué)物質(zhì)稱為前驅(qū)物。這些前驅(qū)物以連續(xù)且自限的方式與材料表面進(jìn)行反應(yīng)。原子層沉積設(shè)備2通過(guò)ALD循環(huán)的次數(shù),緩慢的沉積薄膜。而熱沉積式的ALD需要較高的製程溫度(傳統(tǒng)為150~350oC)。

          SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制ALD的製程,薄膜的厚度和均勻度皆小於+/- 1%。

          厚度均勻度(WIW):

          原子層沉積設(shè)備單個(gè)12英寸晶圓用於沉積目標(biāo)厚度為5nm的Al2O3和HfO2膜。使用橢偏儀進(jìn)行27點(diǎn)厚度測(cè)量並輸入標(biāo)準(zhǔn)偏差公式。在±0.5nm範(fàn)圍內(nèi)和均勻度的5%以內(nèi)。 原子層沉積設(shè)備2

          介電常數(shù)和功函數(shù):

          準(zhǔn)備三個(gè)矽晶片,並以固定的厚度沉積Al2O3/ TiN和化學(xué)氧化物/ HfO2/ TiN。原子層沉積設(shè)備2測(cè)量三個(gè)樣品的CV圖以計(jì)算介電常數(shù)和洩漏電流:介電常數(shù)應(yīng)為7?9(Al2O3)和18?22(HfO2),並且洩漏電流小於1 nA(@ 1V)。

          原子層沉積設(shè)備2

          原子層沉積設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域腔體
          • 高k值之氧化物。

          • OLED和矽太陽(yáng)能電池的鈍化層。

          • 微機(jī)電系統(tǒng)。

          • 納米電子學(xué)。

          • 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜。

          • 光學(xué)薄膜。

          • 薄膜封裝技術(shù)。

          • 鋁腔或者不銹鋼腔體,其佔(zhàn)地面積小,可縮短製程時(shí)間。

          • 通過(guò)使用水冷系統(tǒng)、加熱器或加熱包來(lái)控制腔體溫度。



          配置和優(yōu)點(diǎn)選件
          • 客製化的基板尺寸,直徑可達(dá)300mm晶圓。

          • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±1%。

          • 較高的深寬比和複雜結(jié)構(gòu)具有相同特性之薄膜沉積。

          • 薄膜具有高緻密性。

          • 前驅(qū)物材料可多達(dá)6種並可分別加熱到200°C。

          • 快速脈衝的氣體輸送閥,反應(yīng)時(shí)間為10毫秒。

          • 通過(guò)穩(wěn)定的溫度控制,將基板載臺(tái)加熱到400°C。

          • 材料:Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2, TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt…等等。

          • 可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套箱整合在一起。

          • 橢圓偏振光譜儀。

          • 高真空傳送系統(tǒng)。










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