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          化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>其它薄膜沉積設(shè)備>Propel HVM GaN 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積

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          Propel HVM GaN 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積

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          深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

          致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

          公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

           

           

           

           

           

           

           

           

          冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

          1.產(chǎn)品概述:

          Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統(tǒng)被設(shè)計(jì)為一種大批量制造單晶圓反應(yīng)器簇系統(tǒng),適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應(yīng)器平臺(tái),能夠在150和200毫米晶圓上產(chǎn)生高質(zhì)量外延膜性能,以實(shí)現(xiàn)均勻性、可重復(fù)性和良率。PropelHVM系統(tǒng)可配置多達(dá)6個(gè)模塊化集群室,以實(shí)現(xiàn)最大的生產(chǎn)力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業(yè)務(wù)的理想選擇。

          2.產(chǎn)品優(yōu)勢

          單晶圓反應(yīng)器基于VeecoTurboDisc®設(shè)計(jì),采用突破性技術(shù),包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個(gè)晶圓上提供層流和均勻的溫度分布??蛻艨梢暂p松地將工藝從Veeco的單晶圓反應(yīng)器Propel和K465i™系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到PropelHVMGaNMOCVD平臺(tái),以實(shí)現(xiàn)快速開發(fā)到生產(chǎn)周期.

          Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統(tǒng)被設(shè)計(jì)為一種大批量制造單晶圓反應(yīng)器簇系統(tǒng),適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應(yīng)器平臺(tái),能夠在150和200毫米晶圓上產(chǎn)生高質(zhì)量外延膜性能,以實(shí)現(xiàn)均勻性、可重復(fù)性和良率。PropelHVM系統(tǒng)可配置多達(dá)6個(gè)模塊化集群室,以實(shí)現(xiàn)大的生產(chǎn)力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業(yè)務(wù)的理想選擇。

          單晶圓反應(yīng)器基于VeecoTurboDisc®設(shè)計(jì),采用突破性技術(shù),包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個(gè)晶圓上提供層流和均勻的溫度分布??蛻艨梢暂p松地將工藝從Veeco的單晶圓反應(yīng)器Propel和K465i™系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到PropelHVMGaNMOCVD平臺(tái),以實(shí)現(xiàn)快速開發(fā)到生產(chǎn)周期。





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