VDF-10ZL 高溫真空揮發(fā)爐
- 公司名稱 上海盟庭儀器設(shè)備有限公司
- 品牌 盟庭儀器
- 型號 VDF-10ZL
- 產(chǎn)地 上海
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/1/7 10:44:15
- 訪問次數(shù) 12
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,能源,冶金,綜合 |
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一、設(shè)備用途
本設(shè)備主要用于從 4N 到高純硒的提純制備,可將 4N 硒中的大多數(shù)元素通過真 空揮發(fā)除雜,使硒達到 5~6N 標準。
二、高溫真空揮發(fā)爐主要技術(shù)參數(shù)
1、額定電壓功率:三相,380V,50Hz,≤30Kw
2、坩堝容量:20kg (以硒比重計算)
3、坩堝溫度:≥800℃
4、真空度:≤1x10-1Pa
5、坩堝材質(zhì):石英材質(zhì)
6、極限真空度:<10Pa
7、主要組成部分:真空腔體、爐架、真空系統(tǒng)、熔煉裝置、收集塔、爐蓋升降裝置、 底部升降裝置
三、高溫真空揮發(fā)爐設(shè)備優(yōu)勢
1、爐門采用側(cè)部開門結(jié)構(gòu),方便進出料和安裝拆卸熔煉坩堝
2、爐架由型鋼和數(shù)控折板組裝成爐架,用于支撐爐體,并做為操作平臺,使操作更具人性化
3、真空爐內(nèi)溫度均勻且穩(wěn)定,具有良好的熱傳遞性能,確保材料在加熱過程中受熱均勻,減少熱處理過程中的溫度差異
4、在真空爐內(nèi)可以排除氧氣、水蒸氣等有害氣體,從而減少材料表面的氧化反應(yīng),保持材料的純凈度和性能
5、真空爐內(nèi)部溫度均勻且穩(wěn)定,這得益于其先進的加熱系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)。通過電阻加熱或電磁感應(yīng)加熱方式,真空爐能夠確保材料在加熱過程中受熱均勻,從而提高 熱處理效果。
6、本設(shè)備具有良好的熱傳遞性能,使得熱量能夠迅速且均勻地傳遞到材料內(nèi)部,提高加熱效率。