基片尺寸：4，6，8，12英寸；

時間設(shè)定范圍：1~999秒；

轉(zhuǎn)速范圍：100rpm~8000rpm(1%)；

應(yīng)用：勻膠，甩膠，涂膠，涂膜等；

控制方式：手動控制，數(shù)字程序化控制和觸摸屏控制；

真空性能：專業(yè)Oilless Vac & pressure Pump；

*；

又名：甩膠機,甩膜機,涂膠機,旋轉(zhuǎn)涂膜機,勻膜機等；

的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩膜對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上zui早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多*企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；依優(yōu)秀的技術(shù)、*的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

相關(guān)產(chǎn)品：

掩模對準曝光系統(tǒng) / 光刻機（紫外/深紫外）：手動或自動化控制，基片尺寸4、6、8、12、25英寸，光束均勻性3%，對準精度zui高0.5微米；結(jié)合專業(yè)的楔形誤差補償技術(shù)，使得加工工藝更為完善；