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GL300 Cluster200/300mm全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線
EVG7300多功能紫外納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7337
520HE 納米壓印透鏡三維壓印機(jī)PX 2955
GL6 R&D納米壓印系統(tǒng)PX 1800
HoloPrinter納米壓印-光刻機(jī)PX 2729
FPUPN-NANOONE微納米3D打印機(jī),多光子光刻PX 4068
納米壓印技術(shù)咨詢PX 1946
納米壓印系統(tǒng)PX 3100
4英寸納米壓印機(jī)PX 1845
納米壓印光刻膠PX 3030
Obducat納米壓印儀EITRE® 3PX 2454
HoloPrint uniA6 DT滾筒式納米壓印機(jī)PX 3369
NX-A10/A20/B100光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600PX 2418
EVG720自動(dòng)化SmartNIL紫外納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7337
EVG770 NTDymek岱美儀器分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)PX 7337
HERCULESDymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng)PX 7337
EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng)PX 7337
Dymek岱美儀器EVG620 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng)PX 7337
EVG610納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7337
EVG610紫外納米壓印機(jī)PX 2955
520HE 納米壓印EVG 520HE 熱壓印系統(tǒng)PX 2955
EVG 7200LA納米壓印EVG®510HE 熱壓印系統(tǒng)PX 2955
EVG 7200LA納米壓印EVG 7200LA 大面積SmartNIL UV納米壓印PX 2955
EVG 7200 納米壓印EVG7200 自動(dòng)化SmartNIL UV納米壓印光刻PX 2955
EVG 720 納米壓印EVG 720 自動(dòng)化SmartNIL UV納米壓印光刻PX 2955
6200NT納米壓印EVG6200NT SmartNIL UV納米壓印光刻系統(tǒng)PX 2955
620NT納米壓印EVG 620NT SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)PX 2955
EVG610納米壓印EVG®610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)PX 2955
EVG805DB微流控加工設(shè)備:臨時(shí)鍵合分離機(jī)-EVG805DBPX 2955
EVG-610微流控工藝設(shè)備:?jiǎn)蚊?雙面光刻機(jī)PX 2955
EVG600系列微流控-紫外納米壓印設(shè)備PX 2955
EVG510HE納米壓印設(shè)備之熱壓印:EVG510HEPX 2955
EVG-620單面/雙面光刻機(jī)(接近接觸式)PX 2955
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī)PX 2729
納米壓印工藝開(kāi)發(fā)PX 1946
納米壓印小批量加工PX 1946
GL-ASL納米壓印材料/納米壓印抗粘處理PX 1946
Primer納米壓印增粘劑PX 1946
納米壓印膠PX 1946
工作模具/子模具復(fù)制材料PX 1946
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
透鏡三維壓印機(jī)
紫外納米壓印機(jī)
微納米3D打印機(jī),多光子光刻
納米壓印技術(shù)咨詢
納米壓印工藝開(kāi)發(fā)
納米壓印小批量加工
GL-ASL納米壓印材料/納米壓印抗粘處理
Primer納米壓印增粘劑
上海衡平儀器儀表有限公司
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上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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