光電直讀光譜分析儀定量分析，一般都用內(nèi)標(biāo)法。但在火花直讀光譜分析儀分析時(shí)，要安裝許多內(nèi)標(biāo)元素通道是很困難的，因此采用同一內(nèi)標(biāo)線。分析時(shí)常以樣品中的基體作為內(nèi)標(biāo)元素。所以內(nèi)標(biāo)線即為基體元素的一條譜線。當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，組成分析線對(duì)的兩條譜線的強(qiáng)度雖然有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。如以R表示強(qiáng)度比，即：
    R=I/I0
    I表示分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線的強(qiáng)度，表明I及I。同時(shí)變化，R則不受影響。
    2、三標(biāo)準(zhǔn)試樣法
    三標(biāo)準(zhǔn)試樣法的特點(diǎn)是做工作曲線的標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品，都是在選定好的工作條件下進(jìn)行的。
    (1)工作步驟。
    ① 選擇三個(gè)或三個(gè)以上的標(biāo)準(zhǔn)樣品。
    ②在選擇好的光源激發(fā)條件下，激發(fā)每個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品二次。
    ③記錄激發(fā)二次所得分析元素的電壓計(jì)數(shù)值R。對(duì)每個(gè)樣品得平均值。
    ④標(biāo)樣強(qiáng)度為橫坐標(biāo)，含量C％為縱坐標(biāo)，做工作曲線。
    ⑤由分析樣品的平均值強(qiáng)度，從工作曲線上查對(duì)應(yīng)的含量C值。
    (2)優(yōu)缺點(diǎn)
    這個(gè)方法的優(yōu)點(diǎn)是，同時(shí)激發(fā)，同時(shí)測光。分析條件容易保持*，所以分析誤差較小，但其缺點(diǎn)是費(fèi)時(shí)，速度慢。而且每次都要研磨標(biāo)樣。
    3、控制試樣法
    光源激發(fā)條件事實(shí)上是有變化的，即使每次經(jīng)過予燃以后仍如此?？刂圃嚇臃ㄖ饕褪怯脕頇z查光源激發(fā)的變化以及用來校正光源激發(fā)不穩(wěn)定而引起的分析結(jié)果的偏差?？刂茦悠繁旧韽哪撤N意義上講就是一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品，它的化學(xué)成分和狀態(tài)更接近生產(chǎn)實(shí)際，可通過控制樣品結(jié)果的變化，從而檢查工作曲線有無移動(dòng)。應(yīng)用控制樣品的目的是作快速分析，分析時(shí)，只激發(fā)一個(gè)控制樣品即完成了分析任務(wù)。因?yàn)槿粘７治鰰r(shí)控制樣品和分析樣品是在同一時(shí)間內(nèi)進(jìn)行的，每個(gè)樣品激發(fā)二次，所得分析結(jié)果的變化，應(yīng)該彼此相似?？梢詼p少控制標(biāo)樣和分析樣品性質(zhì)狀態(tài)的不*所引起的第三元素影響或者組織結(jié)構(gòu)的影響，使分析結(jié)果不準(zhǔn)。這些影響往往只使工作曲線產(chǎn)生一些移動(dòng)。
    遇到下列三種情況時(shí)，都可以用控制試樣法進(jìn)行。
    (1)以二元合金標(biāo)樣作出工作曲線做復(fù)雜合金分析時(shí)。
    (2)以熱軋狀態(tài)的標(biāo)樣做同一牌號(hào)的合金的澆鑄狀態(tài)的分析任務(wù)。
    (3)各種牌號(hào)的合金歸類用同一組標(biāo)準(zhǔn)樣品作出的工作曲線進(jìn)行分析。
    由于控制試樣法在日常分析中，用途很廣，因此使用控制試樣法應(yīng)該注意以下問題。
    ①控制樣品的含量與分析樣品含量愈接近愈好。
    ②控制試樣的鋼種和牌號(hào)與分析樣品接近，物理的及化學(xué)的性質(zhì)與分析樣品相同。
    ③控制試樣要有準(zhǔn)確的分析結(jié)果，光譜的均勻性檢驗(yàn)要好，分析結(jié)果的再現(xiàn)性要好。
火花直讀光譜OES1000分析儀參數(shù)規(guī)格
分光室設(shè)計(jì)：帕邢-龍格裝置，1米焦距；根據(jù)測試需求分為真空型、非真空型兩種；特殊材質(zhì)鑄造，保證腔室形變小
*多安裝通道：32
凹面光柵：刻線密度2160gr/mm，曲率半徑998.8mm；逆線色散率0.47nm/mm，波長范圍170-463mm
狹縫寬度：入射狹縫20μm；出射狹縫35-75μm
光電倍增管：10級(jí)側(cè)窗型，熔融石英或玻璃外殼
分辨率：依出射譜線波長和級(jí)次而不同
分析時(shí)間：依樣品種類而不同，一般少于50秒
激發(fā)光源：高壓火花放電，放電頻率200或400Hz，電極間距3-4mm
測光方式：分段積分法
控制系統(tǒng)：采用FPGA技術(shù)控制儀器工作狀態(tài)
火花直讀光譜OES1000分析儀參數(shù)規(guī)格
分光室設(shè)計(jì)：帕邢-龍格裝置，1米焦距；根據(jù)測試需求分為真空型、非真空型兩種；特殊材質(zhì)鑄造，保證腔室形變小
*多安裝通道：32
凹面光柵：刻線密度2160gr/mm，曲率半徑998.8mm；逆線色散率0.47nm/mm，波長范圍170-463mm
狹縫寬度：入射狹縫20μm；出射狹縫35-75μm
光電倍增管：10級(jí)側(cè)窗型，熔融石英或玻璃外殼
分辨率：依出射譜線波長和級(jí)次而不同
分析時(shí)間：依樣品種類而不同，一般少于50秒
激發(fā)光源：高壓火花放電，放電頻率200或400Hz，電極間距3-4mm
測光方式：分段積分法
控制系統(tǒng)：采用FPGA技術(shù)控制儀器工作狀態(tài)
配件
分析通道8個(gè)
分析軟件OES1000
測量控制箱
高壓火花電源箱
恒溫、真空系統(tǒng)
直聯(lián)旋片式真空泵
1kVA交流凈化電源
電腦
打印機(jī)
主要優(yōu)點(diǎn)
儀器全年工作，具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可靠性
可在約50秒內(nèi)同時(shí)分析32個(gè)通道
單一分光室，方便保養(yǎng)、維護(hù)
原廠分析程序，可校正集體效應(yīng)和譜線干擾
使用認(rèn)證標(biāo)樣來標(biāo)定和標(biāo)準(zhǔn)化工作曲線，保證分析的準(zhǔn)確度
光源設(shè)計(jì)緊湊，有效降低電磁干擾，改善儀器穩(wěn)定性
高質(zhì)量的真空光學(xué)系統(tǒng)
高質(zhì)量的恒溫和防震性能
產(chǎn)品簡介
OES1000光電直讀光譜分析儀作為鋼鐵及有色金屬產(chǎn)品的元素分析儀器，以其快速、精確、穩(wěn)定可靠性，使之成為生產(chǎn)優(yōu)質(zhì)金屬產(chǎn)品的*工具。滿足鋼鐵及有色金屬工業(yè)研發(fā)、工藝控制、進(jìn)料檢驗(yàn)、產(chǎn)品分選多方面要求。