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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
ICP-MS 2000國(guó)產(chǎn)ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀的優(yōu)勢(shì)小結(jié)
- 一鍵式等離子體設(shè)計(jì),優(yōu)化簡(jiǎn)便,重現(xiàn)性好
- 高溫等離子體屏蔽技術(shù),靈敏度高,背景噪聲低
- 半導(dǎo)體制冷技術(shù),控溫精確,去溶效果佳
- *活動(dòng)門接口技術(shù),維護(hù)方便
- 二次離子偏轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)理念,連續(xù)背景低
- 新型真空腔體結(jié)構(gòu),安全,方便維護(hù)
- 雙模式電子倍增檢測(cè)器,濃度動(dòng)態(tài)范圍寬
【實(shí)地考察后小結(jié)】
1、建立了ICP-MS 2000的生產(chǎn)線,并建立了完備的應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室,具有大批的應(yīng)用實(shí)驗(yàn)人員。他們歡迎客戶到實(shí)地考察測(cè)試樣品。已售出的幾套大部分均為客戶考察后做的購(gòu)買決定。
2、ICP-MS 2000國(guó)產(chǎn)ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀外形美觀,是公司推出的三套質(zhì)譜里外形*“養(yǎng)眼”的。
3、ICP-MS 2000設(shè)計(jì),尤其是分子泵的配置很高,可獲得更高的靈敏度和檢出限。
4、實(shí)地考察后,用ICP-MS 2000測(cè)定 Si3N4中的鋁元素含量,可以輕松達(dá)到PPB級(jí)測(cè)定的要求,滿足元素痕量測(cè)定的要求,可與進(jìn)口產(chǎn)品媲美。
5、全中文軟件,功能簡(jiǎn)潔易用,給客戶使用帶來(lái)方便。
6、總體來(lái)看,作為中國(guó)個(gè)推出ICP-MS的廠家,并在實(shí)際測(cè)試中獲得了很高的靈敏度和優(yōu)秀的檢出限,已經(jīng)基本達(dá)到了ICP-MS可以實(shí)現(xiàn)痕量定量測(cè)定、準(zhǔn)確、精密度高的要求。
技術(shù)參數(shù)
質(zhì)量數(shù)量范圍:2~255 amu
測(cè)量范圍:≥108
靈敏度: Be≥2×106 ; In≥35×106 ; U≥30×106 單位(cps/mg/L)
檢出限: Be≤10;In ≤2;U≤2 單位(ng/L)
分辨率:0.6~0.8 amu
信噪比:≥50×106
背景噪音:≤2 cps(全質(zhì)量范圍)
質(zhì)量軸穩(wěn)定性:≤0.05 amu/24 h
穩(wěn)定性RSD: 短期≤3%;長(zhǎng)期≤4%
氧化物離子:CeO+/Ce+≤3%
雙價(jià)離子:69Ba2+/138Ba+ ≤3%
同位素比:(107Ag/109Ag)≤0.3%
豐度靈敏度:≤1×10-6低質(zhì)量端;≤5×10-7高質(zhì)量端