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德國(guó)電子束曝光利用電子束在涂有電子抗蝕劑的晶片上直接描畫(huà)或投影復(fù)印圖形的光刻技術(shù)。電子抗蝕劑是一種對(duì)電子敏感的高分子聚合物。經(jīng)過(guò)電子束掃描過(guò)的電子抗蝕劑發(fā)生分子鏈重組，使曝光圖形部分的抗蝕劑發(fā)生化學(xué)性質(zhì)改變，經(jīng)過(guò)顯影和定影，獲得高分辨率的抗蝕劑曝光圖形。現(xiàn)代的電子束光刻設(shè)備已經(jīng)能夠制作小于10納米的精細(xì)線條結(jié)構(gòu)，也可制作光學(xué)掩模版。

德國(guó)電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫(xiě)場(chǎng)大束流進(jìn)行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動(dòng)化程度高，除了放樣取樣外，整個(gè)曝光過(guò)程只需要編輯曝光的相關(guān)參數(shù)，其他過(guò)程均可自動(dòng)完成。