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概述

Insitec濕式顆粒粒度分析儀可為批量或連續(xù)濕式工藝提供全自動實時或人工在線顆粒粒度測量。 可對多種行業(yè)中的懸浮劑、乳劑及漿液進行監(jiān)測與控制，從熱粘性高濃度礦物流到稀脂質(zhì)制藥乳劑。 為了保證代表性取樣，無論是中試規(guī)模還是商業(yè)規(guī)模，定制的工藝界面可滿足客戶的需求。 每款I(lǐng)nsitec濕式系統(tǒng)均具有以下特點：

• 模型硬件依據(jù)GAMP5標準及CIP/SIP要求制造，符合特定的制造規(guī)程。
• 簡單易用的軟件及全自動化運行，大限度地降低培訓要求同時解放人力。
• 與現(xiàn)有控制平臺整合，簡化自動化控制協(xié)議的開發(fā)。
• 可靠性高達95%以上，幾乎無停機，小化維護需求的同時大化投資回報率。

濕法在線粒度儀工作原理

概述
所有 Insitec 的安裝均依照*的應用要求量身定制。 該系統(tǒng)包含從簡單的近線手動操作系統(tǒng)到全自動運行系統(tǒng)，可為連續(xù)監(jiān)測及多元控制提供可靠的在線解決方案。 Malvern Panalytical 與客戶通力合作，無論何時何地，均可為客戶提供專業(yè)知識、硬件及軟件服務。 在成功完成項目的同時，確保了成本效益與良好的投資回報。

成功因數(shù)
工藝分析的成功取決于三個關(guān)鍵部分的仔細考量：

• 工藝界面。
• 樣品測量。
• 數(shù)據(jù)顯示與使用。

工藝界面
Insitec 系統(tǒng)是工藝設備系統(tǒng)，在工廠環(huán)境中運行。 正確選擇儀器與工廠之間的界面是確保長期*運行的基礎(chǔ)。

Malvern Panalytical 擁有在多種濕法應用中經(jīng)過驗證的技術(shù)。 從含有多級級聯(lián)稀釋器可用于高濃度漿液的樣品稀釋硬件，到用于更稀的懸浮劑及乳劑的靜態(tài)采樣器，。 成熟的技術(shù)確保代表性樣品以適當?shù)姆稚顟B(tài)及分析濃度被自動*地傳遞至測量區(qū)域。

Insitec在線系統(tǒng)與工藝流程共同運行并具有手動界面。 對于自動化連續(xù)運行，Insitec安裝于工藝管道內(nèi)或相關(guān)的采樣支路上。

在適合的分散狀態(tài)下進行測量，確保獲取相關(guān)的數(shù)據(jù)，無論是想要了解的狀態(tài)是團聚顆粒還是單獨粒度。

每個測量點都可能需要一款的Insitec，或使用單個粒度儀監(jiān)測多條線路或多項工藝步驟。 這取決于需要的測量頻率。

濕法在線粒度儀設計優(yōu)良的在線工藝界面：

• 傳遞稀釋至適合濃度的代表性樣品進行測量。
• 可靠運行、降低維護頻率、不干擾工藝流程。
• 可行的情況下，循環(huán)分析材料，盡量減少廢料。

樣品測量
Insitec 系統(tǒng)采用激光衍射技術(shù)快速測量顆粒粒度。 應用于濕法系統(tǒng)時，可在一秒鐘內(nèi)對完整的顆粒粒度分布進行測量，從而提供瞬時監(jiān)測。 即使是具有快速動態(tài)的工藝，也可進行有效追蹤。

Insitec系統(tǒng)可直接測量工藝流。 許多濕法工藝具有較高的濃度，使得在激光衍射測量前必須進行稀釋。 然而，所有Insitec系統(tǒng)安裝的多重散射校正專li擴展了該技術(shù)的濃度工作范圍。 此類計算程序在檢測前對與幾個顆粒相互作用的光源濃度影響進行算術(shù)糾正。 更多樣品無需稀釋即可測量；高濃度樣品需要較少的預處理。 而且，所有測量與樣品濃度無關(guān)。

Insitec可為所有粒度分布提供可靠、及時、完整的數(shù)據(jù)。 無論是人工控制還是自動控制，這些數(shù)據(jù)均為更好的工藝控制奠定了穩(wěn)固的基礎(chǔ)。

數(shù)據(jù)顯示和使用
Insitec 系統(tǒng)與現(xiàn)有的控制系統(tǒng)整合。 典型情況下，該系統(tǒng)由*控制室操作，并依據(jù)測量的結(jié)果制定例行決策。 強大的軟件包使整合與數(shù)據(jù)分析更為簡單明了。

Malvern Link II軟件具有將Insitec與現(xiàn)有控制系統(tǒng)以及與自動化工藝控制進行整合的功能。 允許分析員從電腦或現(xiàn)有的控制模擬系統(tǒng)進行操作。 重要的是，Malvern Link II并非*于Insitec整合。 該軟件還可輕松地進行其它儀器類型的整合，簡化多元控制。

RTSizer軟件采用清楚易懂的方式顯示測量數(shù)據(jù)。 結(jié)果報告可按照工業(yè)及客戶標準定制，從而改善信息流。 Insitec數(shù)據(jù)用于：

• 改善工藝認知度。
• 提供即時擾動檢測。
• 支持整體工藝優(yōu)化。
• 自動化工藝控制。

由于報告了完整的粒度分布，因此監(jiān)測與控制可以以任何粒級為基礎(chǔ)，例如：3至30微米粒級的細粉末，超過200微米的材料等。 Insitec數(shù)據(jù)可優(yōu)化人工控制策略并使工藝控制實現(xiàn)*自動化，從而提供豐厚的經(jīng)濟效益。

技術(shù)指標