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? 利用庫(kù)侖電量分析原理，測(cè)量鍍層、多層鍍層
? 符合標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
- 可測(cè)實(shí)際應(yīng)用的所有鍍層
- 利用庫(kù)侖電量分析原理，測(cè)量鍍層、多層鍍層
- 符合標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177
| 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀GALVANOTEST 可以測(cè)量 | GALVANOTEST2000 | GALVANOTEST3000 |
| 可以測(cè)量70種以上鍍層/基體組合 | ● | ● |
| 可以測(cè)量平面、曲面上的鍍層 | ● | ● |
| 可以測(cè)量小零件、導(dǎo)線、線狀零件 | ● | ● |
| 預(yù)置10種金屬的測(cè)量參數(shù)：Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘、Au金（需提供樣品確定） |
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| 預(yù)置9種金屬的測(cè)量參數(shù)：Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘。 | ● |
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| 用戶可另設(shè)置8種金屬的測(cè)量參數(shù) |
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| 用戶可另設(shè)置1種金屬的測(cè)量參數(shù) | ● |
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| 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量機(jī)構(gòu)： |
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| 帶循環(huán)泵 |
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| 帶氣泵 | ● |
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| 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量面積： |
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| 密封墊 8 mm2 | ● |
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| 密封墊 4 mm2 | ● | ● |
| 密封片 1 mm2 | ● | ● |
| 密封片 0.25 mm2（涂鍍層面積幾乎小得看不見(jiàn)） |
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| 電解杯 0.25-16 mm2 （可選件） | ● | ● |
| 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量參數(shù)*化調(diào)整： |
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| 除鍍速度0.3-40 μm/分鐘可調(diào) | ● | ● |
| 根據(jù)金屬和測(cè)量表面可直接調(diào)整系數(shù) | ● | ● |
| 可用厚度標(biāo)準(zhǔn)樣板校準(zhǔn) | ● | ● |
| 可調(diào)整終點(diǎn)電壓，以抗干擾，適應(yīng)鍍層/基體之間的合金 | ● | ● |
| GALVANOTEST的數(shù)據(jù)存儲(chǔ) |
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| 可存儲(chǔ)不同金屬測(cè)量參數(shù)的數(shù)目 | 10 | 18 |
| 可存儲(chǔ)的讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 | 2000 | 2000 |
| 儀器斷電后可保持所有校準(zhǔn)值、讀數(shù)、統(tǒng)計(jì)值。 | ● | ● |
| 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀統(tǒng)計(jì)計(jì)算： |
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| 顯示6種統(tǒng)計(jì)值：均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、變異系數(shù)、zui大、zui小值、讀數(shù)個(gè)數(shù) | ● | ● |
| 立即或稍后顯示統(tǒng)計(jì)值 | ● | ● |
| 立即或稍后打印讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 |
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| 顯示、打印年、月、日、時(shí)、分 | ● | ● |
| 用于外設(shè)的計(jì)算機(jī)接口： |
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| MINIPRINT 微型打印機(jī)接口 | ● | ● |
| RS-232，PC計(jì)算機(jī)接口 | ● | ● |
| 連接x-t計(jì)錄儀模擬電壓輸出接口 | ● | ● |
| 電解液飽和報(bào)警指示 |
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| 測(cè)量的不確定性： |
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| 5%，在8mm2面積下，經(jīng)校準(zhǔn) | ● | ● |
| 庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀電源： |
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| 110/220V，50/60HZ，10W | ● | ● |
| 測(cè)量范圍： |
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| zui大測(cè)量范圍：0.05-75μm | ● | ● |