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NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:52:35 對比

進(jìn)口PECVD臺(tái)式PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:43:29 對比

Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺(tái)進(jìn)口真空鍍膜儀
NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:41:34 對比

NSC-3000磁控濺射系統(tǒng)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)進(jìn)口全自動(dòng)濺射臺(tái)全自動(dòng)濺射鍍膜機(jī)
NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:39:07 對比

Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺(tái)進(jìn)口真空鍍膜儀
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 T...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:37:10 對比

Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)進(jìn)口磁控濺射臺(tái)真空濺射臺(tái)價(jià)格
LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:34:52 對比

全自動(dòng)大基片去膠機(jī)進(jìn)口全自動(dòng)去膠機(jī)進(jìn)口濕法去膠機(jī)全自動(dòng)兆聲去膠機(jī)
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

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兆聲大基片去膠系統(tǒng)濕法去膠機(jī)進(jìn)口單片去膠機(jī)
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一...

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進(jìn)口光刻膠剝離機(jī)進(jìn)口光刻膠去膠機(jī)進(jìn)口濕法去膠機(jī)
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一...

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光刻膠剝離系統(tǒng)進(jìn)口光刻膠剝離系統(tǒng)進(jìn)口濕法去膠機(jī)兆聲去膠機(jī)
NDR-4000（A）全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NDR-4000（A）全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕：全自動(dòng)上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪...

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全自動(dòng)深反應(yīng)離子刻蝕全自動(dòng)DRIE系統(tǒng)全自動(dòng)深硅刻蝕系統(tǒng)進(jìn)口深硅刻蝕系統(tǒng)
NDR-4000（M）DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NDR-4000（M）DRIE深反應(yīng)離子刻蝕：是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝...

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深反應(yīng)離子刻蝕機(jī)深硅刻蝕系統(tǒng)進(jìn)口DRIE系統(tǒng)進(jìn)口深硅刻蝕系統(tǒng)
NPC-4000（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-4000（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光...

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NPC-4000等離子去膠機(jī)進(jìn)口等離子去膠機(jī)進(jìn)口去膠機(jī)價(jià)格
NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶...

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NPC系列等離子刻蝕機(jī)全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)進(jìn)口等離子刻蝕機(jī)
NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶...

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全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)NPC系列自動(dòng)刻蝕機(jī)進(jìn)口自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)
NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光...

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NPC系列等離子去膠機(jī)進(jìn)口等離子去膠機(jī)進(jìn)口等離子灰化機(jī)進(jìn)口去膠機(jī)價(jià)格
NPC-3000等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-3000等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:06:56 對比

進(jìn)口等離子去膠機(jī)進(jìn)口等離子灰化機(jī)進(jìn)口等離子清洗機(jī)
NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：自動(dòng)上下栽片，PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜，13“頂蓋式圓柱形鋁腔...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:02:54 對比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)價(jià)格RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)進(jìn)口反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-3500（M）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-3500（M）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：PC控制的反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 11:01:21 對比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)價(jià)格RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)進(jìn)口反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-4000（M）反應(yīng)離子刻蝕
NRE-4000（M）反應(yīng)離子刻蝕：獨(dú)立式RIE系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 10:59:42 對比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-4000刻蝕機(jī)
NRE-4000（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕
NRE-4000（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...

型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/11/13 10:57:31 對比

反應(yīng)離子刻蝕全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕

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