PHI 硬X射線光電子能譜儀 參考價(jià):面議
PHI 硬X射線光電子能譜儀,下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(diǎn)(QDs),結(jié)合使用 XPS(Al Ka X射線)和 HAXPES(...PHI X射線光電子能譜儀 參考價(jià):面議
PHI X射線光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶體驗(yàn),儀器高性能、全自動(dòng)化、簡單易操作。 操作界面可在同一個(gè)屏幕內(nèi)設(shè)置常規(guī)和高級的多功能測試參數(shù),同時(shí)保留諸如進(jìn)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)