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單溫區(qū)立式滑軌爐設(shè)計(jì)為立式結(jié)構(gòu),爐體可電動(dòng)滑動(dòng)。預(yù)升溫的管式爐可快速移動(dòng)到樣品區(qū),實(shí)現(xiàn)樣品快速升溫反應(yīng)。也可程序控制升溫,實(shí)驗(yàn)擴(kuò)張性好。反應(yīng)氣體自上而下,爐管下...
大口徑封管機(jī)LQS01 D56/58設(shè)備主要用于實(shí)現(xiàn)樣品的無(wú)氧無(wú)水真空密封保存,整套系統(tǒng)由封管機(jī)、氫氧焰機(jī)及真空系統(tǒng)(客戶自備)等組成。該設(shè)備在真空條件下將石英...
單工位封管機(jī),工位立式真空封管機(jī)主要特點(diǎn):1、石英管與內(nèi)置石英柱高溫熔接,標(biāo)準(zhǔn)化處理,重復(fù)性好。 2、石英管配合動(dòng)密封系統(tǒng)自動(dòng)旋轉(zhuǎn),操作簡(jiǎn)單,受熱均勻。3、真空...
單工位高真空封管機(jī)系統(tǒng)主要用于樣品的無(wú)氧無(wú)水真空密封保存和高溫固相合成,整套系統(tǒng)由真空封管機(jī)、氫氧焰機(jī)、真空系統(tǒng)、石英管機(jī)管接頭組成,標(biāo)準(zhǔn)化定制石英管和石英柱保...
真空氣氛箱式爐 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半導(dǎo)體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結(jié)等工藝,也可用于產(chǎn)品的炭化試驗(yàn)。該爐采用電阻絲加熱,PID程...
1200系列八溫區(qū)真空管式爐LFT1200C2400D200VIII設(shè)備主要適用于中小批量材料在高溫條件下熱處理,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,保溫材料使用高純氧化鋁...
臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK設(shè)備設(shè)計(jì)為高通量實(shí)驗(yàn)使用,設(shè)備有8套獨(dú)立的溫控系統(tǒng)溝通,8根獨(dú)立的石英管可同時(shí)參試8組不同實(shí)驗(yàn),...
此井式坩堝爐設(shè)備是集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料,采用電阻絲為加熱元件,最高發(fā)熱溫度可達(dá)1200℃。采用雙層殼體結(jié)構(gòu),配有風(fēng)冷系統(tǒng)...
該設(shè)備為1400系列雙溫區(qū)立式管式爐,可兩段獨(dú)立控溫。根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求可得到兩段不同的溫場(chǎng),也可得到超長(zhǎng)恒溫區(qū)。
預(yù)加熱石英管真空封口系統(tǒng)主要用于實(shí)現(xiàn)樣品的無(wú)氧無(wú)水真空密封保存和高溫固相合成,整套系統(tǒng)由真空封管系統(tǒng)、真空泵系統(tǒng)、分子泵系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、氫氧機(jī)等組成,標(biāo)準(zhǔn)化定制...
1200系列六溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐主要適用于中小批量粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面生長(zhǎng),該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料...
碳納米膜制備設(shè)備如圖所示,由氣體質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長(zhǎng)系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng),紅外烘干系統(tǒng)等組成。
LFT系列 1600系列立式真空管式爐采用硅鉬棒進(jìn)行加熱,設(shè)計(jì)針對(duì)于材料在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下對(duì)材料進(jìn)行燒結(jié),溫度可以達(dá)1600℃,采用雙層殼體結(jié)構(gòu),使得殼體表...
CVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),化學(xué)氣相沉積設(shè)備質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里,移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lb...
恒溫電熱鼓風(fēng)干燥箱 箱體內(nèi)均采用鏡面不銹鋼或拉絲板材料氬弧焊制作而成,箱體外采用優(yōu)質(zhì)鋼板材料,造型美觀、新穎。1.采用具有控溫保護(hù)、帶有定時(shí)功能的數(shù)字顯示微電腦...
立式高溫淬火爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料,采用電阻絲為加熱元件,用于催化劑焙燒,方便催化劑裝填和轉(zhuǎn)移。
該石墨烯制備設(shè)備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)系統(tǒng)由預(yù)熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。CVD(化學(xué)氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長(zhǎng)、沉積,是一...
立式管式爐,高溫高壓管式爐集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料,采用電阻絲為加熱元件。該設(shè)備采用立式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),石英管豎直放置與爐膛內(nèi)部,四...
LFT1700C系列高溫真空管式爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用1800型真空成型高純氧化鋁聚輕材料,加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅鉬棒。
IFVM-1250真空箱式爐,真空氣氛箱式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu),爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料,廣泛應(yīng)用于材料金屬在低真空、還原性、保護(hù)性氣氛下的熱處理,也可用于特殊...
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