無塵潔凈室（Clean Room），亦稱為無塵室，潔凈室或無塵車間。它是污染控制的基礎。沒有無塵潔凈室，污染敏感零件不可能批量生產。在 FED-STD-2里面，無塵潔凈室被定義為具備空氣過濾、分配、優(yōu)化、構造材料和裝置的房間，其中特定的規(guī)則的操作程序以控制空氣懸浮微粒濃度，從而達到適當?shù)奈⒘崈舳燃墑e。焦作醫(yī)藥GMP凈化車間

無塵潔凈室(Clean Room)，亦稱為無塵室，潔凈室或無塵車間。它是污染控制的基礎。沒有無塵潔凈室，污染敏感零件不可能批量生產。在 FED-STD-2里面，無塵潔凈室被定義為具備空氣過濾、分配、優(yōu)化、構造材料和裝置的房間，其中特定的規(guī)則的操作程序以控制空氣懸浮微粒濃度，從而達到適當?shù)奈⒘崈舳燃墑e。

無塵潔凈室主要之作用在于控制產品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產品能在一個良好之環(huán)境空間中生產、制造，此空間我們稱之為無塵潔凈室。按照慣例，無塵凈化級別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數(shù)量來規(guī)定。也就是說所謂無塵并非100%沒有一點灰塵，而是控制在一個非常微量的單位上。當然這個標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見的灰塵已經是小的微乎其微，但是對于光學構造而言，哪怕是一點點的灰塵都會產生非常大的負面影響，所以在光學構造產品的生產上，無塵是必然的要求。焦作醫(yī)藥GMP凈化車間

工藝設計：

 工藝布局
　　第4.1.1條 工藝布局應按生產流程要求，做到布置合理、緊湊，有利生產操作，并能保證對生產過程進行有效的管理。
　　第4.1.2條 工藝布局要防止人流、物流之間的混雜和交叉污染，并符合下列基本要求：
　　一、 分別設置人員和物炎進出生產區(qū)域的通道，極易造成污染的物料（如部分原輔料、生產中廢棄物等）必要時可設置出入口。潔凈廠房內的物傳遞路線盡量要短；
　　二、 人員和物料進入潔凈生產區(qū)應有各自的凈化用室和設計。凈化用室的設置要求與生產區(qū)的空氣潔凈度等級相適應；
　　三、 生產操作區(qū)內應只設置必要的工藝設備和設計。用于生產、貯存的區(qū)域不得用作非本區(qū)域內工作人員的通道；
　　四、 輸送人中和物料的電梯宜分開。電梯不宜設在潔凈區(qū)內。必需設置時，電梯前應設所閘室或其他確保潔凈區(qū)空氣潔凈度的措施。
　　第4.1.3條 在滿足工藝條件的前提下，為提高凈化效果，節(jié)約能源，有空氣潔度要求的房間近下列要求布置：
　　一、 空氣潔凈度高的房間或區(qū)域宜布置在人員少到達的地方，并宜靠近空調機房；
　　二、 不同空氣潔凈度等級的誠心誠意是或區(qū)域宜按空氣潔凈度等級的高低由里及外布置；
　　三、 空氣潔凈度相同的房間或區(qū)域宜相對集中；
　　四、 不同空氣潔凈度房間之間相互聯(lián)系應有防止污染措施，如：氣閘室或傳遞窗（柜）等。
　　第4.1.4條 醫(yī)藥工業(yè)潔凈廠房內應設置與生產規(guī)模相適應的原輔材料、半成品、成品存放區(qū)域，且盡可能靠近與其相聯(lián)系的生產區(qū)域，減少運輸過程中的混雜與污染。存放區(qū)域內應安排待驗區(qū)、合格品區(qū)和不合格品區(qū)。
　　第4.1.5條 下列生產輔助用室的布置要求：
　　一、稱量室
　　宜靠近原輔料室，其空氣潔凈度等級宜同配料室；
　　二、設備及容器具清洗室
　　需要在潔凈區(qū)內清洗的設備及容器具，其清洗室的空氣潔凈度等級應與本區(qū)域相同。100級10000級潔凈區(qū)的設備及容器具宜在本區(qū)域外清洗，其清洗室的空氣潔凈度不應低于100000級；
　　三、清潔工具洗滌、存放室
　　宜設在潔凈區(qū)域外。如需設在潔凈區(qū)內，其空氣潔凈度等級應與本區(qū)域相同；
　　四、潔凈工作服的洗滌、干燥室。
　　第4.1.6條 廠房設計應考慮防止昆蟲、動物進入車間的措施。

第2．2．3條 潔凈室內的溫度和濕度應符合下列規(guī)定：
　　一、 生產工藝對溫度和濕度無特殊要求時，以穿著潔凈工作服不產生不舒服感為宜?？諝鉂崈舳?00級、10000級區(qū)域一般控制溫度為20～24℃，相對濕度為45～60%。100000級區(qū)域一般控制溫度為18～28℃，相對濕度為50～65%。
　　二、 生產工藝對溫度和濕度有特殊要求時，應根據(jù)工藝要求確定。
　　第2．2．4條 潔凈室內應保持一定的新鮮空氣量，其數(shù)值應取下列風量中的大值：
　　一、 非單向流潔凈室總送風量的10～30%，單向流潔凈室總送風量的2～4%；
　　二、 補償室內排風和保持室內正壓值所需的新鮮空氣量；
　　三、 保證室內每人每小時的新鮮空氣量不小于40m3。
　　第2．2．5條 潔凈室必須維持一定的正壓。不同空氣潔凈度的潔凈區(qū)之間以及潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間的靜壓差不應小于5Pa,潔凈區(qū)與室外的靜壓差不應小于10Pa。
　　青霉素等特殊藥物生產潔凈區(qū)，固體口服制劑配料、制粒、壓片等工序潔凈區(qū)的氣壓控制，應符合第8.5.1條要求。
　　第2．2．6條 潔凈室和潔凈區(qū)應根據(jù)生產要求提供足夠的照度。主要工作室一般照明的照度值不宜低于300LX；輔助工作室、走廊、氣閘室、人員凈化和物料凈化用室可低于300LX，但不宜低于150LX。對照度要求高的部位可增加局部照明。焦作醫(yī)藥GMP凈化車間