光催化降解反應(yīng)儀小容量光化學(xué)
1.光化學(xué)反應(yīng)儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化
2.進(jìn)口光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高
3. 光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能,操作簡(jiǎn)便
4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗
光催化降解反應(yīng)儀小容量光化學(xué)
配置單 | 數(shù) 量 |
控制主機(jī) | 1臺(tái) |
反應(yīng)暗箱 | 1臺(tái) |
光源控制器 | 1臺(tái) |
雙層石英冷阱 | 1個(gè) |
循環(huán)機(jī) | 1套 |
汞燈(1000W) | 1支 |
氙燈(1000W) | 1支 |
金鹵燈(500W) | 1支 |
攪拌裝置 | 1套 |
反應(yīng)罐 | 8只(30ml或50ml 共8只) |
一、必須重視儀器設(shè)備的管理和使用
儀器設(shè)備的高負(fù)荷使用,往往容易發(fā)生意外故障,特別是光學(xué)儀器若因維護(hù)和使用不當(dāng)而起霧,就不能發(fā)揮儀器的正常作用,而帶來(lái)工作上的障礙。所以高效的維護(hù)管理儀器設(shè)備已成為當(dāng)今企事業(yè)單位有效降低成本,提高勞動(dòng)生產(chǎn)率的有效手段。目前國(guó)內(nèi)企業(yè)設(shè)備維護(hù)管理一般還停留在被動(dòng)的搶修作業(yè)模式,即當(dāng)儀器設(shè)備發(fā)生故障,無(wú)法繼續(xù)使用時(shí),維修人員才在短時(shí)間內(nèi)將故障排除,而當(dāng)沒(méi)有發(fā)生故障時(shí),維修人員只是空閑,所以這樣的管理模式是談不上效率的,因此,儀器設(shè)備的管理也應(yīng)做好計(jì)劃,同樣設(shè)備維護(hù)管理也需要把非計(jì)劃性的工作轉(zhuǎn)化為計(jì)劃性的工作。如果我們定期的檢查保養(yǎng)來(lái)減低故障的發(fā)生,特別是做好儀器的"三防"工作,避免搶修工作,保證儀器隨時(shí)能投入正常的作用,這就是一種主動(dòng)的方式。
二、注意測(cè)繪儀器的防霧
測(cè)繪儀器在使用和貯放中,除了有生霉現(xiàn)象外,往往還有光學(xué)零件的起霧,影響儀器的正常使用,故可針對(duì)光學(xué)信器起霧的主要因素,采取防止措施。
A、設(shè)計(jì)使用中的防霧措施
A1、設(shè)計(jì)儀器時(shí)注意防霧,儀器結(jié)構(gòu)應(yīng)加強(qiáng)密封性能,保證儀器在高溫或低溫情況下不降低密封性能,以防止因漏氣而引起的水性霧,設(shè)計(jì)人員應(yīng)當(dāng)充分注意選擇化學(xué)穩(wěn)定性能好的光學(xué)玻璃和材料,為防霧打下良好的基礎(chǔ)。
注意事項(xiàng)
在操作、維護(hù)和儀器的所有階段,都必須遵守以下的基本安全措施。在儀器使用時(shí)應(yīng)按照說(shuō)明書(shū)來(lái)操作,違規(guī)使用會(huì)造成儀器的正常工作,至使儀器損壞。
A、為了避免觸電事故,儀器的輸入電源線必須接地,本儀器使用的是三芯接地插頭,這種插頭有接地腳,如果插頭無(wú)法插入座內(nèi),則應(yīng)請(qǐng)電工安裝正確的插座,不要使儀器失去接地保護(hù)作用。
B、注意使用電源:
在連接交流電源之前,要確保電壓與儀器所要求的電壓一致(允許±10%的偏差),并確保電源插座的額定負(fù)載不小于儀器要求。
C、注意使用電源線:
本儀器通常使用隨機(jī)附帶的電源線。如果電源線破損,必須更換不許修理。更換時(shí)必須用相同類(lèi)型和規(guī)格的電源線代替。本儀器使用時(shí)電源線上不許放置任何物品。不要將電源線置于人員走動(dòng)的地方。