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        1. 北京康高特儀器設(shè)備有限公司
          中級(jí)會(huì)員 | 第3年

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          當(dāng)前位置:北京康高特儀器設(shè)備有限公司>>核輻射檢測(cè)儀>>固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)>> TASLimage英國(guó)TASL固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)

          英國(guó)TASL固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)

          參  考  價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號(hào)TASLimage

          品       牌其他品牌

          廠商性質(zhì)代理商

          所  在  地北京市

          更新時(shí)間:2024-06-03 15:59:17瀏覽次數(shù):1183次

          聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)
          產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,石油,地礦
          測(cè)量時(shí)間 30~60 秒
          英國(guó)TASL固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)TASLimage簡(jiǎn)介:TASLimage是基于核徑跡分析技術(shù)發(fā)展的高性能全自動(dòng)圖像測(cè)量及分析系統(tǒng),用于測(cè)量及分析各類塑料徑跡探測(cè)器,例如 TASTRAK(TASL 公司生產(chǎn))、CR39、PN3。

          英國(guó)TASL固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)TASLimage簡(jiǎn)介

          •TASLimage是基于核徑跡分析技術(shù)發(fā)展的高性能全自動(dòng)圖像測(cè)量及分析系統(tǒng),用于測(cè)量及分析各類塑料徑跡探測(cè)器,例如 TASTRAK(TASL 公司生產(chǎn))、CR39、PN3。
          •TASLimage系統(tǒng)的顯微鏡模塊采用了高質(zhì)量 Nikon 光學(xué)器件和超快 3D 機(jī)動(dòng)控制系統(tǒng),保證了系統(tǒng)的高測(cè)量效率、高精度及低本底等優(yōu)異性能。
          •TASLimage適用于中子測(cè)量、氡濃度監(jiān)測(cè)、聚變研究、α 粒子放射自顯影、鈾礦勘探、宇宙射線以及放射領(lǐng)域教學(xué)。

          英國(guó)TASL固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)TASLimage特點(diǎn):
          •全自動(dòng)聚焦,全自動(dòng)掃描點(diǎn)碼和蝕刻徑跡;
          •全自動(dòng)測(cè)讀批量探測(cè)器;
          •快速測(cè)讀,測(cè)讀時(shí)間為 30~60 秒(與參數(shù)設(shè)置相關(guān));
          •自動(dòng)修正探測(cè)器響應(yīng)衰退,保證探測(cè)器可用于 12 個(gè)月的長(zhǎng)期監(jiān)測(cè);
          •高度精密的圖像分析技術(shù),可區(qū)分徑跡與本底特征;
          •全自動(dòng)本底評(píng)估(對(duì)每個(gè)探測(cè)器);
          •掃描數(shù)據(jù)自動(dòng)轉(zhuǎn)換為中子劑量 / 氡濃度;
          •數(shù)據(jù)可導(dǎo)出 excel 文件。

          TASLimage軟件界面
          TASLimage軟件界面

          TASTRAK核徑跡探測(cè)器
          TASTRAK核徑跡探測(cè)器

          探測(cè)器類型 PADC(聚丙烯二甘醇碳酸酯)
          兼容品牌 TASTRAK,CR39,PN3 等,不限尺寸
          TASTRAK 規(guī)格 常規(guī):0.5mm,0.75mm,1.0mm,1.5mm,
          可定制:0.1~0.5mm,> 1.5mm
          本底徑跡 < 20tracks/cm2
          蝕刻數(shù)量 150 個(gè)或 294 個(gè),不銹鋼蝕刻架
          蝕刻條件 (TASTRAK) 氡:98℃ , 約 1 小時(shí);或 75℃ , 約 6 小時(shí);
          中子: 85℃ , 約 3 小時(shí)
          識(shí)別徑跡密度 ≥ 140tracks/mm2
          探測(cè)限 氡:5Bq/m3 ~15MBq/m3
          中子:下限< 0.25mSv
          線性 中子:優(yōu)于 5%, 不窄于 0.1mSv - 600 mSv;
          氡: 3%-6%(200-5000 Bq/m3 )



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