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PLUTO-M等離子清洗機(jī)（小型）武漢廠家
Pluto-M等離子表面處理系統(tǒng)
經(jīng)過多年技術(shù)創(chuàng)新和積累，PLUTO-M創(chuàng)新性將真空式等離子體技術(shù)應(yīng)用于各種不同領(lǐng)域的研究型操作平臺(tái)，除了實(shí)現(xiàn)常規(guī)清潔樣品和表面改性的功能外，通過添加不同的功能模塊，可以實(shí)現(xiàn)等離子體鍍膜，等離子體合成反應(yīng)，等離子體純化等功能，很好的拓展該設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域。
PLUTO-M參數(shù)(標(biāo)準(zhǔn)配置) | |
真空腔尺寸 | 不銹鋼腔體，φ210mm*230mm |
電極尺寸 | 多控自適應(yīng)平板電極，125*125mm |
等離子體發(fā)生器 | RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz；自適應(yīng)阻抗匹配電源 |
功率 | 0-200W連續(xù)可調(diào)，精度1W |
真空計(jì) | 熱電偶真空計(jì) 0-1000mT |
供氣 | 1路氣體，6mm國標(biāo)連接件（軟管） |
控制方式 | 4.3寸觸摸屏，多級(jí)應(yīng)用菜單，操控簡(jiǎn)易快捷 |
抽氣裝置 | 飛躍 VRD-8，二級(jí)油泵8m3/h |
外部尺寸 | 404*640*615mm |
可 選 配 置 | |
純鋁腔體 | 間距可調(diào)電極 |
等離子體發(fā)生器 | RF 13.56MHz 300W/500W,自動(dòng)阻抗匹配電源 |
氣體收集裝置 | 用于收集等離子體化學(xué)反應(yīng)后的氣體 |
小型氧氣發(fā)生器 | 用于制備氧氣，可取代氧氣罐 |
氣體混合裝置 | 可根據(jù)客戶要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì) |
加熱電極模塊 | 電極可以加熱，室溫-200℃可調(diào) |
光譜儀模塊 | 可增加光譜儀的接口，檢測(cè)等離子體光譜變化 |
電極轉(zhuǎn)換模塊 | 可自由變換電極設(shè)計(jì)，樣品可放在射頻電極上，也可以放在地電極上，從而實(shí)現(xiàn)不同的處理效果 |
PLUTO-M等離子清洗機(jī)（小型）武漢廠家
PLUTO-M 典 型 應(yīng) 用
污染物清洗
清洗玻璃、金屬、陶瓷、塑料等材料表面的有機(jī)物及其他污染物
表面活化
利用等離子體轟擊樣品表面，改變樣品表面張力和活性
鍍膜
采用等離子斷鍵功能的裝置，將鍍膜材料以納米級(jí)厚度均勻覆蓋樣品表面
等離子體刻蝕
對(duì)半導(dǎo)體材料、集成電路板、PCB板、塑料制品等材料進(jìn)行刻蝕
等離子體反應(yīng)
特別的工藝手段和裝置，可以實(shí)現(xiàn)等離子體與樣品的化學(xué)反應(yīng)，并得到相應(yīng)物質(zhì)
粉體處理
粉體裝置，可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)顆粒的等離子體均勻處理，實(shí)現(xiàn)各項(xiàng)性能
PLUTO-M等離子清洗機(jī)（小型）
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