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等離子體是物質(zhì)的第四態(tài)，是由電子、離子等帶電粒子及中性粒子組成的混合氣體，宏觀上表現(xiàn)出準(zhǔn)中性，即正負離子的數(shù)目基本相等，整體上呈現(xiàn)電中性，但在小尺度上具有明顯的電磁性質(zhì)

Pluto-30^TM技術(shù)規(guī)格

1. 電源系統(tǒng)：RF射頻電源：頻率13.56MHz；功率≥500W連續(xù)可調(diào)；動態(tài)范圍：1~500W;控制精度：1~100W ±2W ;>100W ±2% ;，輸出穩(wěn)定性：-20分貝。全自動匹配阻抗電源，可自動調(diào)整阻抗反射

2. 真空腔體：經(jīng)檢漏測試的316不銹鋼腔體，內(nèi)部尺寸300W x 280H x 366Dmm

3.電極尺寸（有效處理面積）：接地電極尺寸：226W x 210D mm;功率電極尺寸：226W x 210D mm

4. 電極數(shù)量：7層，工作面最多可達6層（標(biāo)配一對電極）

插桿式，6061-T6鋁合金，電極間距：48mm（可根據(jù)需求更改電極數(shù)量和間距）

5. 在腔體范圍內(nèi)，根據(jù)電極間隙自由設(shè)置工作距離，以適應(yīng)不同規(guī)格樣品。

6.針對不同材料屬性，可自由設(shè)置電極屬性

7.氣體控制：標(biāo)配1路氣體，1個MFC（質(zhì)量流量控制閥），20-200sccm 最多可升級至4路氣體，4個MFC控制器 （氬氣、氧氣、氮氣、氫氣、四氟化碳可選）

8.xtance氣體多層均分方案，可將等離子體均勻分配至樣品表面

9. 設(shè)備控制系統(tǒng)：7寸工業(yè)控制電容觸摸屏，PLC+控制技術(shù)，設(shè)置各項參數(shù)，實時顯示設(shè)備運行狀態(tài)，界面友好，操作方便

10.真空變頻控壓，可實現(xiàn)控制真空腔內(nèi)恒定壓力。

11.真空度過低報警，氣源壓力不足報警，錯誤氣體報警，等一系列報警措施

12. 真空系統(tǒng)：油泵:TRP-24抽氣速率   （50Hz） L/S  6（可選干泵）

13.真空計：皮拉尼真空計

14.真空管路：全不銹鋼管路，以及高強度真空波紋管

15. PLUTO-30軟件參數(shù)

1. 實時動態(tài)顯示各部件工作狀態(tài),并顯示相對應(yīng)數(shù)值,包括閥門開啟與關(guān)閉,流量計,射頻電源是否開啟等實時信息

2. 工藝界面:可選擇自動運行或手動運行,編輯工藝程序,系統(tǒng)配置,運行設(shè)定,監(jiān)控查看運行圖表及相關(guān)系統(tǒng)設(shè)定

3. 全手動操作:整個工藝過程,包括真空泵啟動,工藝氣體時間,功率,輝光放電等均由人工干預(yù)控制.

4. 系統(tǒng)可自由設(shè)定(包括在設(shè)備運行過程中)等離子RF功率,處理時間,真空度,氣體流量,氣體穩(wěn)定時間,氣體通入時間,吹掃,破真空等工藝參數(shù)

5. 操作人員可設(shè)置系統(tǒng)登錄賬戶和密碼,密碼可由經(jīng)過設(shè)置權(quán)限的操作人員設(shè)定和更改,并登錄和退出系統(tǒng)賬號(共有3個級別)

6. 工藝參數(shù)由被設(shè)定權(quán)限的操作人員設(shè)定,每個工藝參數(shù)最多可以有5個工藝步驟組成,可根據(jù)工藝要求設(shè)定每個工藝參數(shù)并設(shè)定每個步驟的相隔時間

7. 可設(shè)定工藝程序底壓與是否開啟吹掃功能和抽底壓時限

8. 報警:可設(shè)定工藝壓力偏移報警(時間,范圍),射頻功率報警(時間和范圍),真空腔泄漏自檢功能

9. 可忽略系統(tǒng)工藝運行時間的邏輯設(shè)定,單獨控制閥門,流量計及射頻電源的開啟與關(guān)閉,以在特殊情況下或應(yīng)用中設(shè)定系統(tǒng)狀態(tài)

16. 外形尺寸：706W x 920D x 1415H mm（寬×深×高）

Pluto-30^TM性能優(yōu)勢

（1）電源：采用高壓激勵電源電路技術(shù)，產(chǎn)生高密度等離子體，能夠穩(wěn)定持續(xù)的作用于樣品表面。耐壓能力強，持續(xù)穩(wěn)定工作。

（2）全面安全防護：設(shè)備有完善預(yù)防裝置和眾多標(biāo)識，以針對于設(shè)備本身安全性和操作人員的安全保障，

（3）放電技術(shù)：電極設(shè)計，可調(diào)節(jié)電極間距，以適用不同規(guī)格的產(chǎn)品，同時又能保證良好處理效果，保障用戶使用需求

（4）真空腔體制造：因為材質(zhì)中雜質(zhì)含量會對等離子體會產(chǎn)生干擾，所以，我們所有的真空腔體均采用腔體采用316不銹鋼，并通過嚴格的檢漏測試。

（5）優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品部件：產(chǎn)品部件帥選，經(jīng)過多年的考量和磨合，選出適合和優(yōu)質(zhì)的部件，確保設(shè)備性能*和長時間穩(wěn)定的運行

（6）低清洗溫度：滿足不同場合溫度要求，不對清洗產(chǎn)品造成溫度影響。同時，我們還能提供水冷電極，以針對溫度非常敏感的產(chǎn)品

（7）精密數(shù)控加工：進口精密CNC數(shù)控機床加工工藝，并配備進口三坐標(biāo)測量儀進行質(zhì)量監(jiān)控。

（8）適用形狀復(fù)雜樣品：清洗各種復(fù)雜形狀的產(chǎn)品，包括內(nèi)孔內(nèi)壁，均勻清洗

（9）多種控制方式：設(shè)備采用PLC+觸摸屏控制方式，具備手動和全自動兩種控制手段，能夠滿足各種不同應(yīng)用層面的控制需求（從產(chǎn)品處理至科學(xué)研究）