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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類(lèi)別	光學(xué)元件

Eksma 硒化鋅（ZNSE）透鏡

硒化鋅（ZnSe）是紅外應(yīng)用中受歡迎的材料。由于透射范圍很廣，可覆蓋0.6-22 µm的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，因此生長(zhǎng)的ZnSe作為高光學(xué)質(zhì)量的材料可用于制造光學(xué)組件。

Eksma 硒化鋅（ZNSE）透鏡

產(chǎn)品介紹

Ø在可見(jiàn)光譜的紅色端吸收低

Ø不吸濕

Ø在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中相當(dāng)穩(wěn)定

硒化鋅（ZnSe）是紅外應(yīng)用中受歡迎的材料。由于透射范圍非常廣，可覆蓋0.6-22 µm的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，因此生長(zhǎng)的ZnSe作為高光學(xué)質(zhì)量的材料可用于制造大功率IR激光器的光學(xué)組件（窗口片，反射鏡，透鏡）。

產(chǎn)品型號(hào)

平凸

型號(hào)	直徑	焦距

561-6122	ø 12.7 mm	25.4 mm	Plano-Convex
561-6192	ø 19.1 mm	38.1 mm	Plano-Convex
561-6193	ø 19.1 mm	50.8 mm	Plano-Convex
561-6251	ø 25.4 mm	50.8 mm	Plano-Convex
561-6252	ø 25.4 mm	63.5 mm	Plano-Convex
561-6253	ø 25.4 mm	76.2 mm	Plano-Convex
561-6254	ø 25.4 mm	101.6 mm	Plano-Convex
561-6255	ø 25.4 mm	127 mm	Plano-Convex
561-6256	ø 25.4 mm	150 mm	Plano-Convex
561-6257	ø 25.4 mm	200 mm	Plano-Convex
561-6258	ø 25.4 mm	254 mm	Plano-Convex
561-6265	ø 25.4 mm	500 mm	Plano-Convex
561-6275	ø 25.4 mm	1000 mm	Plano-Convex
561-6382	ø 38.1 mm	63.5 mm	Plano-Convex
561-6385	ø 38.1 mm	127 mm	Plano-Convex
561-6388	ø 38.1 mm	190.5 mm	Plano-Convex
561-6502	ø 50.8 mm	127 mm	Plano-Convex
561-6765	ø 76.2 mm	254 mm	Plano-Convex

半月板

型號(hào)	直徑	焦距	類(lèi)型
565-6122	ø 12.7 mm	38.1 mm	Meniscus
565-6251	ø 25.4 mm	25.4 mm	Meniscus
565-6252	ø 25.4 mm	38.1 mm	Meniscus
565-6253	ø 25.4 mm	50 mm	Meniscus
565-6255	ø 25.4 mm	63.5 mm	Meniscus
565-6256	ø 25.4 mm	75 mm	Meniscus
565-6257	ø 25.4 mm	100 mm	Meniscus
565-6258	ø 25.4 mm	127 mm	Meniscus
565-6382	ø 38.1 mm	63.5 mm	Meniscus
565-6385	ø 38.1 mm	127 mm	Meniscus
565-6388	ø 38.1 mm	254 mm	Meniscus
565-6502	ø 50.8 mm	127 mm	Meniscus
565-6765	ø 76.2 mm	254 mm	Meniscus

物理性質(zhì)

晶體類(lèi)型	立方體
密度g / cm3	5.27
熔點(diǎn)，℃	1525
折射率@ 8-13 µm	n = 2.417-2.385
折射率@ 10.6 µm	n = 2.403
透射帶，微米	0.6÷22
體積吸收系數(shù)cm-1 @ 10.6 µm	0.6-1.0×10-3
線性熱膨脹系數(shù)，°C-1	8.56×10-6

規(guī)格

材料	ZnSe
表面質(zhì)量	40-20 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
直徑公差	+0.0 -0.13 mm
厚度公差	±0.1 mm
焦距公差	±2% @ 10.6µm
鍍膜	both surfaces AR coated @ 10.6 µm, R ≤ 0.5% per surface

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。