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Eksma 高能偏振立方體分束器
高能量偏振分束器通過光學(xué)接觸以用于大功率應(yīng)用。它們具有準(zhǔn)確的表面質(zhì)量和高消光比。
Eksma 高能偏振立方體分束器
產(chǎn)品介紹
?光學(xué)接觸,適用于大功率應(yīng)用
?典型的損壞閾值:> 15 J / cm2、10 ns,10 Hz在1064 nm下
?尺寸-12.7 x 12.7 x 12.7毫米
?精密的表面質(zhì)量
?高消光比
高能偏振立方分束鏡由UV FS制成,經(jīng)過優(yōu)化,可用于355、532、800、1064 nm的波長或420-680 nm和700-1080 nm的波長范圍。
立方體分束器是光學(xué)接觸的,具有高達(dá)15 J / cm2的激光損傷閾值。立方分束器的所有四個(gè)外表面均具有抗反射鍍膜。提供高能量偏振立方體,未安裝或可方便地安裝在M2P的安裝座上。
產(chǎn)品型號(hào)
未安裝的立方偏振分束器
型號(hào) | 工作波長 | 激光損傷閾值 |
435-1127 | 355 nm | >3 J/cm2 at 355 nm |
435-1121 | 532 nm | >6 J/cm2 at 532 nm |
435-1122 | 800 nm | >8 J/cm2 at 800 nm |
435-1123 | 1064 nm | >15 J/cm2 at 1064 nm |
436-1121 | 420-680 nm | >1 J/cm2 at 532 nm |
436-1123 | 700-1080 nm | >2 J/cm2 at 1064 nm |
固定式立方偏振分光鏡
型號(hào) | 工作波長 | 激光損傷閾值 |
435-1127-M2Ps | 355 nm | >3 J/cm2 at 355 nm |
435-1121-M2Ps | 532 nm | >6 J/cm2 at 532 nm |
435-1122-M2Ps | 800 nm | >8 J/cm2 at 800 nm |
435-1123-M2Ps | 1064 nm | >15 J/cm2 at 1064 nm |
436-1121-M2Ps | 420-680 nm | >1 J/cm2 at 532 nm |
436-1123-M2Ps | 700-1080 nm | >2 J/cm2 at 1064 nm |
材料 | UV FS |
尺寸 | 12.7 x 12.7 x 12.7 mm |
尺寸公差 | ±0.2 mm |
消光比 | >1:500 |
表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
波前畸變 | λ/10 @ 633 nm |
通光孔徑 | >85% of size |
光束偏差 | <3 arcmin |
反射S偏振 | >99.5% |
透射p偏振 | >97% for laser line |
激光損傷閾值 | >15 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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