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        1. 上海攸亦光電科技有限公司
          中級(jí)會(huì)員 | 第4年

          18861577951

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          Eksma 高能偏振立方體分束器
          • Eksma 高能偏振立方體分束器
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          貨物所在地:上海上海市

          更新時(shí)間:2024-06-27 21:00:06

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          Eksma 高能偏振立方體分束器
          高能量偏振分束器通過光學(xué)接觸以用于大功率應(yīng)用。它們具有準(zhǔn)確的表面質(zhì)量和高消光比。

          Eksma 高能偏振立方體分束器


          高能量偏振分束器通過光學(xué)接觸以用于大功率應(yīng)用。它們具有準(zhǔn)確的表面質(zhì)量和高消光比。

          Eksma 高能偏振立方體分束器

          產(chǎn)品介紹

          ?光學(xué)接觸,適用于大功率應(yīng)用

          ?典型的損壞閾值:> 15 J / cm2、10 ns,10 Hz在1064 nm下

          ?尺寸-12.7 x 12.7 x 12.7毫米

          ?精密的表面質(zhì)量

          ?高消光比

          高能偏振立方分束鏡由UV FS制成,經(jīng)過優(yōu)化,可用于355、532、800、1064 nm的波長或420-680 nm和700-1080 nm的波長范圍。

          立方體分束器是光學(xué)接觸的,具有高達(dá)15 J / cm2的激光損傷閾值。立方分束器的所有四個(gè)外表面均具有抗反射鍍膜。提供高能量偏振立方體,未安裝或可方便地安裝在M2P的安裝座上。

          產(chǎn)品型號(hào)

          未安裝的立方偏振分束器

          型號(hào)

          工作波長

          激光損傷閾值

          435-1127

          355 nm

          >3 J/cm2 at 355 nm

          435-1121

          532 nm

          >6 J/cm2 at 532 nm

          435-1122

          800 nm

          >8 J/cm2 at 800 nm

          435-1123

          1064 nm

          >15 J/cm2 at 1064 nm

          436-1121

          420-680 nm

          >1 J/cm2 at 532 nm

          436-1123

          700-1080 nm

          >2 J/cm2 at 1064 nm

          固定式立方偏振分光鏡

          型號(hào)

          工作波長

          激光損傷閾值

          435-1127-M2Ps

          355 nm

          >3 J/cm2 at 355 nm

          435-1121-M2Ps

          532 nm

          >6 J/cm2 at 532 nm

          435-1122-M2Ps

          800 nm

          >8 J/cm2 at 800 nm

          435-1123-M2Ps

          1064 nm

          >15 J/cm2 at 1064 nm

          436-1121-M2Ps

          420-680 nm

          >1 J/cm2 at 532 nm

          436-1123-M2Ps

          700-1080 nm

          >2 J/cm2 at 1064 nm


          材料

          UV FS

          尺寸

          12.7 x 12.7 x 12.7 mm

          尺寸公差

          ±0.2 mm

          消光比

          >1:500

          表面質(zhì)量

          20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

          波前畸變

          λ/10 @ 633 nm

          通光孔徑

          >85% of size

          光束偏差

          <3 arcmin

          反射S偏振

          >99.5%

          透射p偏振

          >97% for laser line
          >90% for broadband

          激光損傷閾值

          >15 J/cm2
          10 ns pulses at 1064 nm

          EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
          公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。


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