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          上海攸亦光電科技有限公司
                                                                        
          
										  中級(jí)會(huì)員 | 第4年									
          
                                    								
          

							
          
						
          
                        

					
          
										
          
						
          
                            							
          
								
          
								
          
									
          18861577951
          
								
          
							
          
                            						
          
					
          
										
				
          
			
          
			
          
				
          
					
				
          
			
          
		
          

		
		 
				
          
			
          
				
          
					
          
						
          當(dāng)前位置：> 供求商機(jī)> Eksma 線性偏振激光束的電動(dòng)可變衰減器-2
          
					
          
				
          
			
          
		
          

	
          
		
          
			
          Eksma 線性偏振激光束的電動(dòng)可變衰減器-2
          
		
          
		
          
			
		
          
	
          
	
          
		
          
			
          
				
          
					
            
						
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							Eksma 線性偏振激光束的電動(dòng)可變衰減器-2
						
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          貨物所在地：上海上海市
          
                                        					
          更新時(shí)間：2024-06-27 21:00:06
          
					
          瀏覽次數(shù)：49
          
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							Eksma 線性偏振激光束的電動(dòng)可變衰減器-2
          具有&#248;10 mm透明光圈的電動(dòng)可變衰減器，可以連續(xù)改變出射的s-pol和p-pol光束的強(qiáng)度比。 衰減器由薄膜偏振片，高性能波片和精密光機(jī)械組成。

					
          
					
          Eksma 線性偏振激光束的電動(dòng)可變衰減器-2
          990-0071M

           
          Eksma 線性偏振激光束的電動(dòng)可變衰減器-2
          具有?10 mm透明光圈的電動(dòng)可變衰減器，可以連續(xù)改變出射的s-pol和p-pol光束的強(qiáng)度比。 衰減器由薄膜偏振片，高性能波片和精密光機(jī)械組成。
          產(chǎn)品介紹
          這款電動(dòng)可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計(jì)的，用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機(jī)械適配器和精密光機(jī)械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中，該偏振片在56°時(shí)反射S偏振光，同時(shí)透射P偏振光。石英半波片安裝在電動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)960-0161中?？梢酝ㄟ^(guò)旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個(gè)光束的強(qiáng)度比，而不會(huì)改變其他光束參數(shù)。
          可以在很寬的動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對(duì)比度。

          注意：控制器和電源應(yīng)單獨(dú)訂購(gòu)。
          EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
          公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
          公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
          產(chǎn)品型號(hào)
          適用于Nd：YAG激光應(yīng)用
          型號(hào)
          波長(zhǎng)
          激光損傷閾值
          配置
          990-0071-355M
          355 nm
          5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
          without controller & power supply
          990-0071-355M+CP
          355 nm
          5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
          with controller & power supply
          990-0071-532M
          532 nm
          5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
          without controller & power supply
          990-0071-532M+CP
          532 nm
          5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
          with controller & power supply
          990-0071-1064M
          1064 nm
          5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
          without controller & power supply
          990-0071-1064M+CP
          1064 nm
          5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm





          飛秒應(yīng)用
          型號(hào)
          波長(zhǎng)
          激光損傷閾值
          配置
          990-0071-257M
          257 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-257M+CP
          257 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-266M
          266 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-266M+CP
          266 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-343M
          343 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-343M+CP
          343 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-400M
          400 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-400M+CP
          400 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-400BM
          390-410 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-400BM+CP
          390-410 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-515M
          515 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-515M+CP
          515 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-515BM
          505-525 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-515BM+CP
          505-525 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-800M
          800 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-800M+CP
          800 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-800BM
          780-820 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-800BM+CP
          780-820 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-1030M
          1030 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-1030M+CP
          1030 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-1030BM
          1010-1050 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-1030BM+CP
          1010-1050 nm
          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          適用于高功率飛秒應(yīng)用
          型號(hào)
          波長(zhǎng)
          激光損傷閾值
          配置
          990-0071-257HM
          257 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-257HM+CP
          257 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-266HM
          266 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-266HM+CP
          266 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-343HM
          343 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-343HM+CP
          343 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-400HM
          400 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-400HM+CP
          400 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-400HBM
          390-410 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-400HBM+CP
          390-410 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-515HM
          515 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-515HM+CP
          515 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-515HBM
          505-525 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-515HBM+CP
          505-525 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-800HM
          800 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-800HM+CP
          800 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-800HBM
          780-820
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-800HBM+CP
          780-820
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-1030HM
          1030 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-1030HM+CP
          1030 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          990-0071-1030HBM
          1010-1050 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          without controller & power supply
          990-0071-1030HBM+CP
          1010-1050 nm
          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
          with controller & power supply
          適用于Nd：YAG激光應(yīng)用
          通光孔徑
          10 mm
          損害閾值
          5 J/cm2
          pulsed at 1064 nm, typical
          偏振比
          >1:200

          飛秒應(yīng)用
          通光孔徑
          10 mm
          損害閾值
          大功率激光應(yīng)用：
          >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
          >100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
          時(shí)間分散
          t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses
          偏振比
          >1:200
          這款電動(dòng)可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計(jì)的，用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機(jī)械適配器和精密光機(jī)械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中，該偏振片在56°時(shí)反射S偏振光，同時(shí)透射P偏振光。石英半波片安裝在電動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)960-0161中。可以通過(guò)旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個(gè)光束的強(qiáng)度比，而不會(huì)改變其他光束參數(shù)。
          可以在很寬的動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對(duì)比度。
          EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
          公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
          公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
          公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
          公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
          公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
          公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
          這款電動(dòng)可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計(jì)的，用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機(jī)械適配器和精密光機(jī)械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中，該偏振片在56°時(shí)反射S偏振光，同時(shí)透射P偏振光。石英半波片安裝在電動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)960-0161中?？梢酝ㄟ^(guò)旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個(gè)光束的強(qiáng)度比，而不會(huì)改變其他光束參數(shù)。
          可以在很寬的動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對(duì)比度。

          
                                                                				
          
			
          
		
          
	
          
		



  
    
    				
			 
    
    

    

     
      
     
	 

 
	 
	
	
	

          
	
          
		
          
			
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