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Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4
薄透鏡，具有333-353 nm范圍的防反射鍍膜。透鏡可以提供電子束（+ AR343）或IBS（+ AR343HT）鍍膜。

Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4

Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4

薄透鏡，具有333-353 nm范圍的防反射鍍膜。透鏡可以提供電子束（+ AR343）或IBS（+ AR343HT）鍍膜。

產(chǎn)品介紹

?防反射鍍膜的AR / AR @ 333-353 nm

?非常?。哼吘壓穸葟?.5到1.9mm不等

?中心厚度從1到3mm不等

?平凸或平凹類型

?也可以不加鍍膜或帶有不同的增透膜

Femtoline Thin AR在333-353 nm透鏡上鍍膜，適用于飛秒Ti：Sapphire激光脈沖的應(yīng)用。所展示的透鏡可確保寬帶飛秒Ti：藍寶石激光脈沖的低群延遲色散。

產(chǎn)品型號

平凹透鏡（?12.7 mm）

型號	材料	類型	直徑	CT	ET	焦距@ 800NM	反射
112-1104ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	3.5 mm	-20 mm	R<0.5%
112-1104ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	3.5 mm	-20 mm	R<0.2%
112-1106ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	2.5 mm	-30 mm	R<0.5%
112-1106ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	2.5 mm	-30 mm	R<0.2%
112-1108ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	2.1 mm	-40 mm	R<0.5%
112-1108ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	2.1 mm	-40 mm	R<0.2%
112-1109ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.9 mm	-50 mm	R<0.5%
112-1109ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.9 mm	-50 mm	R<0.2%
112-1110ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.7 mm	-60 mm	R<0.5%
112-1110ET+AR800HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.7 mm	-60 mm	R<0.2%
112-1112ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.5 mm	-75 mm	R<0.5%
112-1112ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.5 mm	-75 mm	R<0.2%
112-1113ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.5 mm	-80 mm	R<0.5%
112-1113ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.5 mm	-80 mm	R<0.2%
112-1115ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.4 mm	-100 mm	R<0.5%
112-1115ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.4 mm	-100 mm	R<0.2%
112-1117ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.3 mm	-125 mm	R<0.5%
112-1117ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.3 mm	-125 mm	R<0.2%
112-1119ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.2 mm	-150 mm	R<0.5%
112-1119ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.2 mm	-150 mm	R<0.2%

平凹透鏡（?25.4 mm）

型號	材料	類型	直徑	CT	ET	焦距@ 800NM	反射
112-1205ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	5.4 mm	-50 mm	R<0.5%
112-1205ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	5.4 mm	-50 mm	R<0.2%
112-1209ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	4.0 mm	-75 mm	R<0.5%
112-1209ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	4.0 mm	-75 mm	R<0.2%
112-1211ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	3.3 mm	-100 mm	R<0.5%
112-1211ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	3.3 mm	-100 mm	R<0.2%
112-1215ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	3.0 mm	-125 mm	R<0.5%
112-1215ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	3.0 mm	-125 mm	R<0.2%
112-1217ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.7 mm	-150 mm	R<0.5%
112-1217ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.7 mm	-150 mm	R<0.2%
112-1219ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.4 mm	-200 mm	R<0.5%
112-1219ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.4 mm	-200 mm	R<0.2%
112-1221ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.3 mm	-250 mm	R<0.5%
112-1221ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.3 mm	-250 mm	R<0.2%
112-1223ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.1 mm	-300 mm	R<0.5%
112-1223ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.1 mm	-300 mm	R<0.2%
112-1233ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	1.9 mm	-500 mm	R<0.5%
112-1233ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	1.9 mm	-500 mm	R<0.2%

材料					UVFS
表面質(zhì)量					40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
通光孔徑					90% of the diameter
直徑公差					+0.00, -0.12 mm
厚度公差					±0.2 mm
表面不規(guī)則					λ/8 @ 633 nm
同心度					3 arcmin
近軸焦距					±2% @ 800 nm

鍍膜

技術(shù)	電子束多層電介質(zhì)
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
損壞閾值	100 mJ / cm2、50 fsec脈沖，典型343 nm
鍍膜表面平整度	通光孔徑下633 nm處的λ/ 10
入射角	0度

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

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