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        1. 上海攸亦光電科技有限公司
          中級(jí)會(huì)員 | 第4年

          18861577951

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          Eksma 飛秒級(jí)線性偏振激光束可變衰減器
          • Eksma 飛秒級(jí)線性偏振激光束可變衰減器
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          貨物所在地:上海上海市

          更新時(shí)間:2024-06-27 21:00:06

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          Eksma 飛秒級(jí)線性偏振激光束可變衰減器
          該可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計(jì)的光機(jī)械適配器,用于偏振片在56&#176;840-0117A或840-0118A和精密光機(jī)械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56&#176;的S偏振光,同時(shí)透射P偏振光,可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中??梢酝ㄟ^(guò)旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個(gè)光束的強(qiáng)度比,而不會(huì)改變其他光束參數(shù)。

          Eksma 飛秒級(jí)線性偏振激光束可變衰減器

          990-0071




          Eksma 飛秒級(jí)線性偏振激光束可變衰減器

          將激光束分成兩束,分別由68°的手動(dòng)可調(diào)強(qiáng)度比,較大的動(dòng)態(tài)范圍,可忽略的透射光束偏差組成。

          產(chǎn)品介紹

          ?將激光束分為兩束,分別由手動(dòng)調(diào)節(jié)強(qiáng)度比的68°角分開

          ?大動(dòng)態(tài)范圍

          ?可以忽略的透射光束偏差

          ?高光學(xué)損傷閾值

          ?透射光束的衰減范圍:0.5%-95%反射光束的衰減范圍:5%-99.5%

          該可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計(jì)的光機(jī)械適配器,用于偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機(jī)械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光,同時(shí)透射P偏振光,可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中??梢酝ㄟ^(guò)旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個(gè)光束的強(qiáng)度比,而不會(huì)改變其他光束參數(shù)。

          可以在很寬的動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°,并獲得較大的偏振對(duì)比度。

          產(chǎn)品型號(hào)

          飛秒激光脈沖

          型號(hào)

          波長(zhǎng)

          激光損傷閾值

          990-0071-343

          343 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-400

          400 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-400B

          390-410 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-515

          515 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-515B

          505-525 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-800

          800 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-800B

          780-820 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-1030

          1030 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-1030B

          1010-1050 nm

          > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          大功率激光應(yīng)用

          型號(hào)

          波長(zhǎng)

          激光損傷閾值

          990-0071-266H

          266 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-343H

          343 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-400H

          400 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-400HB

          390-410 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-515H

          515 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-515HB

          505-525 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-800H

          800 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-800HB

          780-820 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-1030H

          1030 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          990-0071-1030HB

          1010-1050 nm

          > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

          飛秒應(yīng)用

          孔徑

          10 mm

          損害閾值

          大功率激光應(yīng)用:

          > 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

          > 100 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型

          時(shí)間色散

          對(duì)于100 fs Ti:藍(lán)寶石激光脈沖,t<4 fs

          偏振對(duì)比

          >1:200


          EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

          我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

          EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

          公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

          該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。


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