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Eksma FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-2
Eksma FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-2
飛秒應(yīng)用的激光鏡被設(shè)計為具有較寬的工作波長范圍和線性相位-頻率特性(低群延遲色散(GDD))。
產(chǎn)品介紹
飛秒應(yīng)用的激光鏡被設(shè)計為具有較寬的工作波長范圍和線性相位-頻率特性(低群延遲色散(GDD))。鍍膜是單層電介質(zhì),在工作波長范圍內(nèi)沒有相移。
對于相同的電介質(zhì)鍍膜,對于S偏振,高反射率反射鏡始終具有更高的反射率,更寬的工作區(qū)域和更低的脈沖失真。 如果可能,請使用帶有S偏振光束的反射鏡。
我們的標準反射鏡適用于基本的Ti:Sapphire和Yb:KGW / KYW激光器及其兩倍,三倍或四倍的頻率。 推薦用于在UV區(qū)工作的高功率激光應(yīng)用。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號
500-530 nm
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 |
031-0515 | 500-530 nm | BK7 | ?12.7 x 3 mm | 45° | 99.5% |
031-0515-i0 | 500-530 nm | BK7 | ?12.7 x 3 mm | 0° | 99.7% |
031-0515T6 | 500-530 nm | BK7 | ?12.7 x 6 mm | 45° | 99.5% |
031-0515T6-i0 | 500-530 nm | BK7 | ?12.7 x 6 mm | 0° | 99.7% |
032-0515 | 500-530 nm | BK7 | ?25.4 x 6 mm | 45° | 99.5% |
032-0515-i0 | 500-530 nm | BK7 | ?25.4 x 6 mm | 0° | 99.7% |
035-0515 | 500-530 nm | BK7 | ?50.8 x 8 mm | 45° | 99.5% |
035-0515-i0 | 500-530 nm | BK7 | ?50.8 x 8 mm | 0° | 99.7% |
037-0515 | 500-530 nm | BK7 | ?76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.5% |
037-0515-i0 | 500-530 nm | BK7 | ?76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.7% |
041-0515 | 500-530 nm | UV FS | ?12.7 x 3 mm | 45° | 99.5% |
041-0515-i0 | 500-530 nm | UV FS | ?12.7 x 3 mm | 0° | 99.7% |
041-0515T6 | 500-530 nm | UV FS | ?12.7 x 6 mm | 45° | 99.5% |
041-0515T6-i0 | 500-530 nm | UV FS | ?12.7 x 6 mm | 0° | 99.7% |
041-0515T6HHR | 500-530 nm | UV FS | ?12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% |
041-0515T6HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ?12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% |
042-0515 | 500-530 nm | UV FS | ?25.4 x 6 mm | 45° | 99.5% |
042-0515-i0 | 500-530 nm | UV FS | ?25.4 x 6 mm | 0° | 99.7% |
042-0515HHR | 500-530 nm | UV FS | ?25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% |
042-0515HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ?25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% |
045-0515 | 500-530 nm | UV FS | ?50.8 x 8 mm | 45° | 99.5% |
045-0515-i0 | 500-530 nm | UV FS | ?50.8 x 8 mm | 0° | 99.7% |
045-0515T12HHR | 500-530 nm | UV FS | ?50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% |
045-0515T12HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ?50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% |
047-0515 | 500-530 nm | UV FS | ?76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.5% |
047-0515-i0 | 500-530 nm | UV FS | ?76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.7% |
760-840 nm
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 |
031-0800 | 760-840 nm | BK7 | ?12.7 x 3 mm | 45° | 99.5% |
031-0800-i0 | 760-840 nm | BK7 | ?12.7 x 3 mm | 0° | 99.7% |
031-0800T6 | 760-840 nm | BK7 | ?12.7 x 6 mm | 45° | 99.5% |
031-0800T6-i0 | 760-840 nm | BK7 | ?12.7 x 6 mm | 0° | 99.7% |
032-0800 | 760-840 nm | BK7 | ?25.4 x 6 mm | 45° | 99.5% |
032-0800-i0 | 760-840 nm | BK7 | ?25.4 x 6 mm | 0° | 99.7% |
035-0800 | 760-840 nm | BK7 | ?50.8 x 8 mm | 45° | 99.5% |
035-0800-i0 | 760-840 nm | BK7 | ?50.8 x 8 mm | 0° | 99.7% |
037-0800 | 760-840 nm | BK7 | ?76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.5% |
037-0800-i0 | 760-840 nm | BK7 | ?76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.7% |
041-0800 | 760-840 nm | UV FS | ?12.7 x 3 mm | 45° | 99.5% |
041-0800-i0 | 760-840 nm | UV FS | ?12.7 x 3 mm | 0° | 99.7% |
041-0800T6 | 760-840 nm | UV FS | ?12.7 x 6 mm | 45° | 99.5% |
041-0800T6-i0 | 760-840 nm | UV FS | ?12.7 x 6 mm | 0° | 99.7% |
041-0800T6HHR | 760-840 nm | UV FS | ?12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% |
041-0800T6HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ?12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% |
042-0800 | 760-840 nm | UV FS | ?25.4 x 6 mm | 45° | 99.5% |
042-0800-i0 | 760-840 nm | UV FS | ?25.4 x 6 mm | 0° | 99.7% |
042-0800HHR | 760-840 nm | UV FS | ?25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% |
042-0800HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ?25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% |
045-0800 | 760-840 nm | UV FS | ?50.8 x 8 mm | 45° | 99.5% |
045-0800-i0 | 760-840 nm | UV FS | ?50.8 x 8 mm | 0° | 99.7% |
045-0800T12HHR | 760-840 nm | UV FS | ?50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% |
045-0800T12HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ?50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% |
047-0800 | 760-840 nm | UV FS | ?76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.5% |
047-0800-i0 | 760-840 nm | UV FS | ?76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.7% |
基材
材料 | UV級熔融石英或BK7玻璃 |
S1表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | +0.00 mm-0.12 mm |
厚度公差 | ±0.25 |
楔 | <3 min |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85% |
鍍膜 | 硬電介質(zhì)高反射率R> 99.5% |
專為平均偏振而設(shè)計 | R =(Rs + Rp)/ 2 |
激光損傷閾值 | > 100 mJ / cm2,50 fsec,50 Hz,800 nm典型 |
鍍膜表面平整度 | 透明孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
入射角 | 0或45±3度 |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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