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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
Park XE15大樣品臺工業(yè)原子力顯微鏡概述：
Unique MultiSample™ scan boosts research productivity
Park XE15能夠一次性掃描和測量多個樣品，讓您的效率一高再高。您只需要將樣品放入工作臺，再啟動掃描程序便可。該功能也可以讓您在相同的環(huán)境條件下掃描樣品，從而提高數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。
Large sample size increases possibilities
與大多數(shù)的原子力顯微鏡不同，Park XE15可掃描大尺寸為200 mm x 200 mm的樣品。這樣既滿足了研究員對掃描大樣品的需求，也讓故障分析工程師能夠掃描硅片。
Features adaptable to any need
Park XE15配有絕大多數(shù)的掃描模式，可掃描各種尺寸的樣品。得益于此，Park XE15是共用實驗室的配置，能夠滿足每個人的需求。
Park XE15大樣品臺工業(yè)原子力顯微鏡技術(shù)信息：
使用MultiSample™掃描進(jìn)行方便的樣品測量
Park XE15 MultiSample™ scan system
1.記錄用戶定義的多個掃描位置
2.在d一個掃描位置成像
3.提升懸臂
4.將電動樣品臺移至下一個用戶定義坐標(biāo)
5.探針接近
6.重復(fù)掃描
- 一次性自動多樣品成像
- 特別設(shè)計的多樣品卡盤，可裝載多達(dá)16個樣品
- 全機動XY軸樣品臺，行程范圍達(dá)150 mm x 150 mm
借助電動樣品臺，MultiSample™掃描模式能夠允許用戶自行編程，借助自動化步進(jìn)掃描，實現(xiàn)多區(qū)域成像。
流程如下：1.記錄用戶定義的多個掃描位置
2.在d一個掃描位置成像
3.提升懸臂
4.將電動樣品臺移至下一個用戶定義坐標(biāo)
5.探針接近
6.重復(fù)掃描
記錄多個掃描位置十分簡單，您可以輸入樣品-樣品臺坐標(biāo)或使用兩個參考點校正樣品位置。該自動化功能大大減少您在掃描過程中需要的工作，大大提高了生產(chǎn)力。
通過消除串?dāng)_進(jìn)行準(zhǔn)確的XY掃描
Park Systems的*串?dāng)_消除(XE)掃描系統(tǒng)能夠有效解決上述問題。我們使用了二維柔性平臺專門掃描樣品的XY軸位置，并通過壓電疊堆傳動裝置專門掃描探針懸臂的Z軸位置。用于XY軸掃描的柔性平臺采用了固體鋁材，其具有超高的正交性和出色的平面外運動軌跡。柔性平臺可在XY軸掃描大型樣品（1 kg左右），頻率z高達(dá)100 Hz左右。由于XY軸的帶寬要求遠(yuǎn)低于Z軸的帶寬要求，因此該掃描速度已然足夠。用于Z軸掃描的壓電疊堆傳動裝置具有大的推拉力和高共振頻率（約10 kHz）。
二維柔性平板掃描儀，掃描范圍為10 µm x 10 µm
XY軸掃描器含有對稱的二維柔性和高強度壓電疊堆，可在保持平面外運動少的情況下，實現(xiàn)高正交運動以及納米級樣品掃描下的高響應(yīng)度。緊湊且堅固的結(jié)構(gòu)是為了低噪聲高速伺服回應(yīng)而設(shè)計的。
柔性High Force Z掃描儀
憑借著高強度壓電疊堆和柔性結(jié)構(gòu)，其可以允許掃描器以更高的速度縱向移動，這是傳統(tǒng)原子力顯微鏡中掃描器所無法做到的。大Z軸掃描范圍可從標(biāo)準(zhǔn)的12 µm增至40µm（選購遠(yuǎn)距離Z軸掃描器）。
滑動鏈接SLD
燕尾式軌道設(shè)計，輕松更換原子力顯微鏡鏡頭。借助超輻射發(fā)光二極管(SLD)的低相干性，顯微鏡可成像高度反光表面和精密測量pico-Newton力對距光譜。此外，超輻射發(fā)光二極管的波長也解決了干擾問題，讓用戶可隨意在可見光譜實驗中使用原子力顯微鏡。
多樣本卡盤
特別設(shè)計的多樣品卡盤，可裝載多達(dá)16個樣品，可由MultiSample自動掃描模式按序掃描。借助*的鏡頭設(shè)計，用戶可從側(cè)面輕易操作樣品和探針。
無障礙樣品架
*的鏡頭設(shè)計可掃描尺寸高為100 mm的樣品，且可輕易從側(cè)面更換樣品和探針。
手動XY樣品臺
在手動XY軸樣品臺的控制下，樣品的測量定位變得簡單。XY軸樣品臺的行程范圍是13 mm x 13 mm。
手動光學(xué)平臺
同軸鏡頭可手動調(diào)焦。
帶有控制器板中的DSP板的Park XE控制電子設(shè)備
原子力顯微鏡的納米級信號是由高性能的Park XE電子控制器所控制和處理的。憑借著低噪聲設(shè)計和高速處理單元，Park XE電子控制器成功實現(xiàn)了True Non-Contact™模式，這是納米級成像和準(zhǔn)確電壓電流測量的理想選擇。- 高性能處理單元，頻率達(dá)600 MHz，處理速度高達(dá)4800 MIPS
- 低噪聲設(shè)計，帶來準(zhǔn)確的電流電壓測量
- 全能系統(tǒng)，融合各種掃描探針顯微鏡技術(shù)
- 外部信號獲取模塊，獲取原子力顯微鏡輸入/輸出信號
- 大16幅數(shù)字圖像
- 大分辨率：4096 × 4096
- 16位ADC/DAC，頻率為500 kHz
- 隔離通過TCP/IP連接的電腦電噪聲
掃描模式
可擴(kuò)展的AFM解決方案
支持Park行業(yè)中廣泛的SPM模式和選項
現(xiàn)如今，研究院需要描述不同測量條件和樣品條件下的各類物理性質(zhì)。Park Systems帶來業(yè)內(nèi)多的掃描探針顯微鏡模式、多的原子力顯微鏡選擇和兼容性和升級性，讓樣品*的表征掃描變得簡單。
