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當(dāng)前位置:江西瑞威爾生物科技有限公司>>瑞威爾試劑>>精品化學(xué)試劑>> 13360-57-1二甲胺基磺酰氯有機(jī)化合物
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)13360-57-1
品 牌MREDA
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地吉安市
更新時(shí)間:2022-02-22 11:46:55瀏覽次數(shù):515次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)米吡氯銨 精細(xì)化學(xué)品藥用輔料現(xiàn)貨供應(yīng)
雷莫蘆單抗 精細(xì)化學(xué)品藥用輔料現(xiàn)貨供應(yīng)
供貨周期 | 一周 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,建材,紡織皮革 |
---|---|---|---|
主要用途 | 有機(jī)合成、醫(yī)藥合成中間體,用于制備丁苯和藥物利尿酸、強(qiáng)痛定及中間體2-乙基-1 |
醫(yī)藥中間體,有機(jī)催化劑;廣泛應(yīng)用在電鍍硬鉻和裝飾鉻工藝中。可以明顯提高電流效率,改善鍍液對(duì)陽(yáng)極板的腐蝕,鍍出的產(chǎn)品表面更光亮、鍍層硬度更高、微裂紋數(shù)更多,具有更高的耐腐蝕性;在電鍍裝飾鉻中,可提高沉積速度以及鍍液分散能力。
一、以固體形式直接使用:
1、在電鍍硬鉻工藝中直接添加甲基二磺酸鈉的優(yōu)點(diǎn):
(1)陰極電流效率高,可達(dá)23-26%。
(2)沉積速度快,是一般普通電鍍鉻的2-3倍。
(3)無(wú)陰極低電流區(qū)腐蝕。
(4)鍍層平滑,結(jié)晶細(xì)致光亮。
(5)高鍍層硬度,可達(dá)HV900-1150。
(6)微裂紋可達(dá)400-800條/厘米。
(7)鍍層厚度均勻,無(wú)高電流區(qū)沉積過(guò)厚。
(8)可使用高電流密度,可達(dá)90安培/平方分米。
(9)鍍液維護(hù)簡(jiǎn)單,操作容易。
(10)無(wú)陽(yáng)極腐蝕,不需采用特殊陽(yáng)極(建議使用含錫量7%-10%鉛錫合金)。
2、鍍液配方和操作工藝
(1)清洗鍍槽
(2)注入去離子水
(3)加入所需量的鉻酐220-250g/L
(4)甲基二磺酸鈉添加量,按每升鍍液添加5g,用溫水稀釋入槽
項(xiàng)目 | 最佳 | 范圍 |
鉻酐(CrO3) | 250g/L | 220~270g/L |
硫酸(H2SO4) | 2.7g/L | 2.5~3g/L |
三價(jià)鉻(Cr3+) | 2.5g/L | 2~5g/L |
甲基二磺酸鈉(開缸) | 5g/L | 4-6g/L |
陰極電流密度 | 60A/dm2 | 30~90A/ dm2 |
溫度 | 57℃ | 55~65℃ |
陰陽(yáng)極面積比 | 1:2~1:3 | |
甲基二磺酸鈉(補(bǔ)加) | 每補(bǔ)加1公斤鉻酐同時(shí)補(bǔ)加8克。 |
(5)加入去離子水、調(diào)節(jié)至規(guī)定液面
(6)硫酸濃度2.5-3.0g/L
(7)加熱至55-60℃
(8)適當(dāng)電解產(chǎn)生三價(jià)鉻
(9)加入適宜的鉻霧抑制劑
(10)試鍍
3、槽液補(bǔ)加
日常補(bǔ)加按每添加50公斤鉻酐同時(shí)添加0.4公斤甲基二磺酸鈉。
二、如何用甲基二磺酸鈉為主要原料配制高效硬鉻添加劑
(一)、高效硬鉻添加劑配制方法(以配制100公斤硬鉻添加劑為例:)
去離子水: | 79.5公斤 |
甲基二磺酸鈉:(純度 99%): | 17公斤 |
甲基二磺酸(50%) | 1公斤(可選) |
對(duì)甲苯磺酸: | 1.5公斤 |
碘化鉀 | 1公斤 |
(二)高效硬鉻添加劑使用說(shuō)明
工藝特點(diǎn)
1、不含氟元素,不含稀土,對(duì)陽(yáng)極和鍍件不鍍部位不產(chǎn)生腐蝕作用。
2、陰極電流效率高,可達(dá)25~30%,節(jié)電一半左右。
3、光亮電流密度范圍寬,可使用高達(dá)90安培/平方分米以上。
4、沉積速度快、節(jié)電、省工、省時(shí)、降低成本。
5、鍍層結(jié)晶細(xì)致光亮,與基體結(jié)合力強(qiáng);鍍層硬度高,Hv硬度達(dá)1000以上。
6、鍍層裂紋數(shù)高,可控制在400~1000條/厘米,因而提高產(chǎn)品的耐磨性和耐蝕性。
7、鍍液覆蓋能力強(qiáng)、深鍍能力好、鍍層均勻。
8、鍍液穩(wěn)定,添加劑消耗少,抗雜質(zhì)性能強(qiáng),易于操作維護(hù)。
配方和工藝條件
項(xiàng)目 | 最佳 | 范圍 |
鉻酐(CrO3) | 250g/L | 220~300g/L |
硫酸(H2SO4) | 2.7g/L | 2~4g/L |
三價(jià)鉻(Cr3+) | 2.5g/L | 2~5g/L |
鍍鉻添加劑(開缸) | 25ml /L | 20~30ml/L |
陰極電流密度 | 60A/dm2 | 30~80A/ dm2 |
溫度 | 57℃ | 55~65℃ |
陰陽(yáng)極面積比 | 1:2~1:3 | |
鍍鉻添加劑(補(bǔ)加) | 每補(bǔ)加一公斤鉻酐同時(shí)補(bǔ)加50毫升 |
鍍液配制
1、將鍍槽洗凈并加入鍍槽體積2/3去離子水或蒸餾水,加熱到50℃將所需鉻酐溶解。
2、補(bǔ)加去離子水或蒸餾水至所需體積。
3、取樣分析鍍液中硫酸含量并調(diào)至工藝規(guī)定范圍。
4、加入硬鉻添加劑并攪均勻。
5、可適當(dāng)加入鉻霧抑制劑。
6、用10安/平方分米電流電解5~6個(gè)小時(shí),使鍍液達(dá)平衡狀態(tài)后便可開鍍。
說(shuō)明
1、陽(yáng)極可用含銻6%鉛銻合金板或含錫8~12%的鉛錫合金板。
2、定期分析CrO3、H2SO4及Cr3+的含量,并調(diào)整至工藝范圍。
3、若使用周期換向電源,電流密度可進(jìn)一步提高。
沉積速度參考數(shù)據(jù)
電流密度(安/平方分米) | 沉積速度(微米/小時(shí)) |
30 | 25~40 |
45 | 40~60 |
60 | 60~75 |
75 | 75~90 |
我們只生產(chǎn)鍍鉻中間體,不生產(chǎn)鍍鉻添加劑!所有數(shù)據(jù),包括配方均是真實(shí)的。我們相信其準(zhǔn)確性,但不保證其準(zhǔn)確性。我們強(qiáng)烈建議客戶在自己的試驗(yàn)室或設(shè)備上進(jìn)行試驗(yàn)來(lái)確認(rèn)!
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