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所 在 地西安市
更新時(shí)間：2021-07-22 15:36:37瀏覽次數(shù)：207次
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| 純度 | 95% | 供貨周期 | 現(xiàn)貨 |
|---|---|---|---|
| 規(guī)格 | mg | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè) |
| 主要用途 | 科研用 |
PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm-昊然
靜電紡絲技術(shù)是目前制備納米纖維重要的基本方法。這一技術(shù)的核心是使帶電荷的高分子溶液或熔體在靜電場(chǎng)中流動(dòng)并發(fā)生形變,然后經(jīng)溶劑蒸發(fā)或熔體冷卻而固化，于是得到纖維狀物質(zhì)，這一過程簡(jiǎn)稱電紡。
PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm-昊然
PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）
通過蒸汽刻蝕法對(duì)靜電紡絲制備的納米纖維膜進(jìn)行刻蝕,使微米相纖維產(chǎn)生納米級(jí)的觸角,成功制備疏水性聚己內(nèi)酯(PCL)納米纖維膜.同時(shí)研究了溶劑配比,刻蝕時(shí)間等因素對(duì)PCL納米纖維膜刻蝕結(jié)果的影響規(guī)律.通過掃描電子顯微鏡(SEM),接觸角測(cè)量?jī)x分析不同條件對(duì)纖維膜表面形貌及其疏水性的影響.
PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）
PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）
PLGA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）
PLGA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）
PLGA納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）
PLA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）
PLA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）
PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）
PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）
PLA納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）
PCL納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）
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PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）
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