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| 參考價(jià) | 面議 |
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更新時(shí)間：2024-04-25 16:50:21瀏覽次數(shù)：1457評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 串聯(lián)四極桿 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品,化工,制藥,綜合 |
液質(zhì)聯(lián)用儀專業(yè)培訓(xùn)介紹
液質(zhì)聯(lián)用儀專業(yè)培訓(xùn)PM項(xiàng)目服務(wù)內(nèi)容
第一部分：維護(hù)前數(shù)據(jù)記錄
A.氣體檢查、真空檢查；
B.Q1正離子模式數(shù)據(jù)記錄；
C.Q3正離子模式數(shù)據(jù)記錄；
D.PPGMS/MS測(cè)試；
E.Q1負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄；
F.Q3負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄；
第二部分：維護(hù)過(guò)程部分
A.檢查儀器的輸入電壓是否正常；
B.檢查儀器所有的輸入氣體壓力是否正常；
C.檢查離子源各個(gè)接頭是否有堵塞或漏液情況，并通過(guò)超聲波清洗兩通接頭和噴霧出口部分；
D.檢查離子源是否有漏氣情況；
E.檢查離子源內(nèi)PEEK管，發(fā)現(xiàn)堵塞時(shí)更換，清洗離子源流路；
F.分別在正負(fù)離子模式下檢查離子源高壓是否正常，清洗離子源內(nèi)壁；
G.分別在正負(fù)離子模式下檢查L(zhǎng)ENS電路板上各個(gè)測(cè)試點(diǎn)的電壓是否正常；
H.檢查并優(yōu)化檢測(cè)器電壓；
I.根據(jù)維護(hù)前做的測(cè)試實(shí)驗(yàn)，停機(jī)清洗LINAC,Q1和Q3，清洗接口部分（interface，Oriface內(nèi)部，Qjet，curtainplate）和四極桿；
J.檢查機(jī)械泵，清洗機(jī)械泵濾網(wǎng)；
K.檢查空氣過(guò)濾網(wǎng)，堵塞時(shí)更換；
L.用壓縮空氣吹洗儀器內(nèi)部的灰塵，消除潛在的故障隱患；
M.檢查操作儀器的工作站，清除不必要的程序并壓縮整理磁盤；
第三部分維護(hù)后實(shí)驗(yàn)結(jié)果和記錄
A.實(shí)驗(yàn)前檢查儀器真空度是否正常，調(diào)節(jié)RF；
B.調(diào)節(jié)優(yōu)化離子源參數(shù)，用標(biāo)準(zhǔn)品分別做Q1、Q3正負(fù)離子模式下實(shí)驗(yàn)，記錄實(shí)驗(yàn)結(jié)果；
第四部分本次維護(hù)保養(yǎng)總結(jié)
A.清洗離子源、curtainplate、orificeplate、skimmer、Q0、Q1、Q3。
B.電路板除塵，儀器清灰。
C.測(cè)試LENS電壓，電壓值均符合要求。
D.調(diào)試Q1、Q3正負(fù)離子模式PPG信號(hào)。
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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