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          目錄:上海激譜光電有限公司>>衍射光柵>>特殊光柵>> Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

          Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
          • Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
          參考價(jià) 面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          參考價(jià) 面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 品牌 Edmund Optics
          • 型號(hào)
          • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
          • 所在地 上海市
          屬性

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          更新時(shí)間:2024-11-28 10:30:37瀏覽次數(shù):483評(píng)價(jià)

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          組件類別 光學(xué)元件
          Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
          納米級(jí)紋理凹槽表面
          可變凹槽周期和凹槽深度
          納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇

          Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

          納米級(jí)紋理凹槽表面

          可變凹槽周期和凹槽深度

          納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇


          通用規(guī)格

          涂層:
          Uncoated
          構(gòu)造 :
          RIE Grating
          基底:
          Single Crystal Silicon
          表面質(zhì)量:
          60-40 (within CA)
          厚度 (mm):
          0.68 ±0.05


          型號(hào)

          產(chǎn)品編碼Period (nm)尺寸 (mm)
          16-855855 ±42.7512.50 x 12.50 
          16-856855 ±42.7525.00 x 25.00 
          16-857139 ±6.9512.50 x 12.50 
          16-858139 ±6.9525.00 x 25.00 


          詳細(xì)資料

          Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級(jí)紋理表面組成。通過(guò)反應(yīng)離子蝕刻,具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面,類似于傳統(tǒng)的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規(guī)格,以及更復(fù)雜的圖案,例如晶格。II-VI LightSmyth™ 納米圖案硅印章是光學(xué)和光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、納米壓印和微流體領(lǐng)域的納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇。

          請(qǐng)注意: II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.

          技術(shù)數(shù)據(jù)

          Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

          Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

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          Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

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