近日，上海大學(xué)生命科學(xué)學(xué)院 OS1p便攜式葉綠素?zé)晒鈨x順利完成安裝驗收, 該儀器可用于協(xié)助監(jiān)測高溫脅迫對作物生長的影響。研究作物高溫傷害及其生理生化基礎(chǔ)，將有助于采取相應(yīng)措施減輕高溫危害，并為篩選抗高溫基因型提供有效的途徑。選育抗高溫品種并輔以配套技術(shù)措施，對抵御高溫逆境尤為重要。

Goss和Lepetit（2015）使用光保護性成分qE、qM鑒定抗性品種。許多科學(xué)家提出了NPQ四分量的計算方法，并利用它們進行抗性品種的篩選（Maxwell and Johnson 2000，Guadagno et al.2010，Rohá?ek2010，Kasajima et al.2015，Tietz et al.2017）。

  圖1：現(xiàn)場安裝圖片

葉綠素?zé)晒庾鳛樽魑锏墓夂咸匦詤?shù)可以直觀快速的反應(yīng)其高溫抗性，其中：

（1） 最大光化學(xué)效率Fv/Fm對45^o C以上高溫比較敏感。（Haldiman P，＆Feller U.   2004）（Schreiber U. 2004），（Baker and Rosenqvist 2004）（Crafts-Brander and Law 2000）。

（2） 實際光量子產(chǎn)量Y（II）是一種光適應(yīng)快速檢測，大約需要兩秒鐘。 Y（II）是用于快速測量高溫脅迫的最敏感的葉綠素?zé)晒鈪?shù)。可以檢測到約 35℃或更高溫度下的熱脅迫（Haldiman P，＆Feller U.2004），（Dascaliuc A.，Ralea t.，Cuza P.，2007）。 在測量 Y（II）時需要使用 PAR 葉夾，因為數(shù)值會隨光強而變化，PAR 葉夾會根據(jù)葉片的位置和角度測量葉片溫度和接收到 PAR。

3） 非光化學(xué)淬滅NPQ --- 是一項需要大約二十到三十五分鐘或整夜暗適應(yīng)的檢測。淬滅參數(shù)檢測適用于溫度高于 35℃的中度高溫脅迫，如監(jiān)測高溫環(huán)境下橡木 - 桉樹的 NPQ 和 qP（Haldiman P，＆Feller U. 2004）， 菠菜的中度高溫脅迫。 （Tang Y.，Wen X.，Lu Q.，Yang Z.，Cheng Z.，＆Lu C. 2007）。

OS1p作為一款高級便攜式研究型葉綠素?zé)晒鈨x，可以測量如下葉綠素?zé)晒鈪?shù)：

? Fv/Fm，Y(II)，ETR，PAR，葉片溫度，RLC（ETRmax，Im，Ik& a）,

? Kramer lake 淬滅模型（Y(NPQ), Y(NO), Y(II), qL , & ETR）

? Hendrickson lake淬滅模型（NPQ, Y(NPQ), Y(NO), Y(II) & ETR）

? Baker puddle模型（qP , qN , & NPQ）

? 淬滅弛豫（葉黃素循環(huán)qE、狀態(tài)轉(zhuǎn)換qT、葉綠體遷移qM &光抑制 qI）

其中淬滅弛豫參數(shù)（qE、qT、qM & qI）是非光化學(xué)淬滅NPQ的四個分量，精確計算四個分量有助于從光能利用的角度深層次研究植物的抗性機理。qE和qM可用于評估光保護性能，qI是光合作用的光抑制作用，反應(yīng)植物對環(huán)境脅迫的保護性調(diào)節(jié)，qT是改變進入光系統(tǒng)I和光系統(tǒng)II反應(yīng)中心的能量流平衡的過程，反應(yīng)植物對光能的利用能力。

Goss和Lepetit（2015）使用光保護性成分qE、qM鑒定抗性品種。許多科學(xué)家提出了NPQ四分量的計算方法，并利用它們進行抗性品種的篩選（Maxwell and Johnson 2000，Guadagno et al.2010，Rohá?ek2010，Kasajima et al.2015，Tietz et al.2017）。

與同類產(chǎn)品相比，優(yōu)勢如下：

（1） 長時間淬滅測量過程中可保持“穩(wěn)定”光化光強輸出；

（2） 內(nèi)置多相飽和光閃校正程序，確保高光照條件下也可以測得準確的Fm’和Y(II)；

（3） 可以測量非光化學(xué)淬滅NPQ的全部組分（qE、qM、qT）；

（4） 自動設(shè)置調(diào)制光強，降低人為操作誤差；