VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀
- 公司名稱 沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/3/30 20:13:08
- 訪問次數(shù) 394
聯(lián)系方式：吳女士15640436639 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
切割機(jī)，金剛石線切割機(jī)，研磨拋光機(jī)，提拉涂膜機(jī)，旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)，真空鍍膜機(jī)，管式爐，箱式爐，電池實驗研究設(shè)備，清洗機(jī)
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD-1000 |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
主要參數(shù) | 1、輸入電源：220V/50Hz |
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機(jī)尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm |
采購中心
化工儀器網(wǎng)