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刻蝕機(jī)終點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)檢測(cè)原理:通過(guò)特定波長(zhǎng)譜線的強(qiáng)度變化來(lái)反映是否達(dá)到刻蝕終點(diǎn)。
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電子束蒸發(fā)系統(tǒng),EB-4P電子shu沉積系統(tǒng)
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個(gè)容量不同的袖珍坩堝和各種電源,可以添加熱阻源或直流和射頻濺射或蝕刻。
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ELS-F125是Elionix推出的世界上1st臺(tái)加速電壓達(dá)125KV的電子束曝光
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EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺(tái),采用跟電子束曝光機(jī)EBPG5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì),
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PIONEERTwo將專(zhuān)業(yè)電子束曝光設(shè)備和電子成像系統(tǒng)所有的先進(jìn)性能,融
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RAITH多功能電子束曝光系統(tǒng)eLINE Plus
探索超越電子束曝光功能的納米工程系統(tǒng)超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統(tǒng)納米加工領(lǐng)域的瑞士
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Electron Beam Lithography System(EBL)
納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納