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PhableR 100 德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻機(jī)
- 公司名稱 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) PhableR 100
- 產(chǎn)地 德國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2019/7/21 17:33:11
- 訪問次數(shù) 760
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
|---|
德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統(tǒng)
科研/生產(chǎn)兼用
簡介：
PhableR 100 紫外光刻機(jī)是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術(shù)，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。
特點(diǎn)： · 高效的大面積亞微米-納米圖形化設(shè)備 · 操作簡單、工作穩(wěn)定，兼容科研及批量生產(chǎn) · 納米周期性圖案解決方案 優(yōu)勢： · 大面積圖形化設(shè)備：適用4、6、8寸襯底 · 高曝光效率：非步進(jìn)式曝光，無拼接，單次全場曝光實(shí)現(xiàn)整片圖形化 · 高精度：光學(xué)衍射自成像原理，突破傳統(tǒng)曝光精度極限 · 非接觸式曝光 · 設(shè)備沒有景深限制，曝光過程無需對(duì)焦 · 雙工作模式（UV375機(jī)型）：高分辨模式（周期性納米-微米結(jié)構(gòu)），一般紫外光刻模式（非周期結(jié)構(gòu)） · 設(shè)備采用通用的商業(yè)光刻膠，根據(jù)客戶的圖形，提供工藝技術(shù)支持。
|
PhableR 100革新性紫外光刻 |
技術(shù)指標(biāo)：
光源 | UV375nm | DUV266nm | DUV193nm |
分辨率 | 125nm | 75nm | 62nm |
周期范圍 | 250-3000nm | 150-2500nm | 125-2000nm |
操作方式 | 手動(dòng)裝片-自動(dòng)曝光 | ||
參數(shù)設(shè)置 | 觸摸屏 | ||
基片尺寸 | 大4、6、8英寸（尺寸向下兼容） | ||
PhableR 100 晶圓級(jí)光子學(xué)結(jié)構(gòu)的曝光工具
應(yīng)用：
· 圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）
· DFB布拉格光柵
· 減反層圖形
· 顯示濾光片Color Filter
· 線柵偏振Wire Grid Polarizer（WGP）
· 光子晶體
· 磁性納米結(jié)構(gòu)
· 太陽能光伏
· 生物傳感器
· AR、VR技術(shù)
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