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          Iplas 沉積機(jī) 德國 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積

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          德國 Iplas策波等離子沉積機(jī)

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            同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料,主要代理有國 Heidelberg 海德堡光刻機(jī),美國 OAI 光刻機(jī),德國 Raith 電子束光刻機(jī),英國 Durtham 無掩膜光刻機(jī),美國 Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國 Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀,日本 SEN  UV清洗機(jī).UV清洗燈,美國Jelight UV清洗機(jī),美國 Nano-master 晶圓清洗機(jī),美國 Arradiance 原子層沉積機(jī),德國 WL 微波離子沉積機(jī),德國 Iplas 微波離子沉積機(jī)美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng),德國 Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。

          光刻機(jī),鍍膜沉積機(jī),刻蝕機(jī),UV清洗機(jī),實(shí)驗(yàn)檢測儀器,UV燈

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          德國 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積

           

          德 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積
           

          詳細(xì)介紹
          德國 IPLAS 微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)(MPCVD), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率,降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

          MPCVD是*的制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國iplas公司的 CYRANNUS® 等離子技術(shù)解決了傳統(tǒng)等離子技術(shù)的局限,可以在10mbar到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團(tuán),大限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動(dòng)引起的等離子體狀態(tài)的變化,從而確保單晶生長的持續(xù)性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

           

          化學(xué)機(jī)理概要:

          碳?xì)浠衔铮禾峁┏练e材料

          氫氣:生成sp3

          氧:對(duì)石墨相/sp2鍵侵蝕

          惰性氣體:緩沖氣體,或生成納米晶體。

          適用合成材料:

          大尺寸寶石級(jí)單晶鉆石

          高取向度金剛石晶體

          納米結(jié)晶金剛石

          碳納米管/類金剛石碳(DLC)


          金剛石薄膜

          寶石級(jí)鉆石

          vvs1,~1 carrat, E grade

           

          多種等離子發(fā)生器選擇:

           

          頻率:2.45GHz, 915MHz:

           

          功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW

           

          等離子團(tuán)直徑:70mm, 145mm, 250mm, 400mm

           

          工作其他范圍:0-1000mBar 

           

                              

          其他應(yīng)用:


          MPCVD同樣適用于平面基體,或曲面顆粒的其它硬質(zhì)材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國iplas公司憑借幾十年在等離子技術(shù)領(lǐng)域的積累,可以為用戶提供高度定制的設(shè)備,滿足用戶不同的應(yīng)用需要。

           

           

           



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