化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>電子束刻蝕系統(tǒng)>RAITH-EBPG5150 電子束直寫(xiě)系統(tǒng) EBPG5150
RAITH-EBPG5150 電子束直寫(xiě)系統(tǒng) EBPG5150
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) RAITH-EBPG5150
- 產(chǎn)地 德國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/9/25 15:40:40
- 訪問(wèn)次數(shù) 1835
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 150萬(wàn)-200萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
專業(yè)電子束曝光系統(tǒng)
電子束直寫(xiě)系統(tǒng) EBPG5150
自動(dòng)化和高速度的電子束直寫(xiě)技術(shù)
電子束直寫(xiě)系統(tǒng)EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺(tái)，采用跟電子束曝光機(jī)EBPG5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì)，對(duì)電子束直寫(xiě)應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
Improved Specifications
- Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
- Extreme beam current up to 350 nA
- Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm
- 高束流密度，熱場(chǎng)發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換
- 155mm的平臺(tái)
- 小曝光特征尺寸小于8nm
- 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器
- 在所有KVs加速電壓下，可連續(xù)改變的寫(xiě)場(chǎng)大小，大可以到1mm
- GUI人機(jī)交互界面友好，簡(jiǎn)潔易用，適用于多用戶環(huán)境
- 多項(xiàng)靈活可選擇的配置，可以適用于不同應(yīng)用的需求
可選的系統(tǒng)增強(qiáng)升級(jí)
EBPG5150可以選擇不同的升級(jí)選項(xiàng)，以滿足用戶不同的技術(shù)和預(yù)算需求。讓*的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進(jìn)、高自動(dòng)化的電子束光刻系統(tǒng)。
電子束直寫(xiě)系統(tǒng)EBPG5150 應(yīng)用
電子束曝光用于制作GaAs T型器件
微盤(pán)諧振器
開(kāi)口環(huán)諧振器
電子束直寫(xiě)系統(tǒng)EBPG5150 產(chǎn)品詳情
主要應(yīng)用：
| 電子光學(xué)柱技術(shù)：
| 樣品臺(tái)：
|
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