FPSEM-STE-MS150 高壓PVD系統(tǒng)
- 公司名稱 孚光精儀(中國)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) FPSEM-STE-MS150
- 產(chǎn)地 孚光精儀歐洲
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/8/5 12:07:48
- 訪問次數(shù) 934
聯(lián)系方式:華小姐021-22799028 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 80萬-100萬 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,航天 | 1 | 2 |
這款高壓PVD系統(tǒng)配置適合在晶圓濺射金屬膜,磁性材料,多組分氧化物,得益于它靈活的配置和特殊的晶圓加熱器設(shè)計(jì),PVD可以在溫度最高900℃的襯底上濺射金屬膜層和磁性材料,最大容納晶圓直徑為150mm,訂制后最大可容納200mm直徑晶圓。
高壓PVD系統(tǒng)特點(diǎn)
•最多3個(gè)磁控管源,靶材為∅76,2 mm
•過程氣體:Ar、H2、O2、N2
•磁控管源位于柔性支架上,可聚焦到單點(diǎn)(共焦幾何結(jié)構(gòu)),以提供共沉積模式
•每個(gè)磁控管源的主快門或單獨(dú)快門(可選)
•可能安裝電子束源和/或熱阻蒸發(fā)器以及用于基板清潔的離子源(可選)
•多功能真空沉積系統(tǒng),可配備各種PVD源和高溫晶圓加熱
•用2-3個(gè)磁控管沉積多組分薄膜
•從2-3個(gè)磁控管源同時(shí)濺射相同的目標(biāo)材料,以在∅100-150 mm基板上提供最大的均勻性
•可能升級(jí)多達(dá)7個(gè)磁控管源,以便使用旋轉(zhuǎn)式晶圓安裝逐個(gè)沉積材料
高壓PVD系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
工藝過程反應(yīng)器中的極限壓力: 不小于<1×10-7(<1×10-8 in UHV version)
達(dá)到預(yù)處理真空的時(shí)間(<5×10^-6Torr)在TMP 550 l/sand,干渦旋泵35m3/h時(shí): 不超過2min
沉積過程中晶圓旋轉(zhuǎn)的速度范圍: 0~20rpm
晶圓加熱溫度: 最高900°С
泵送系統(tǒng)性能:–渦輪分子泵,不小于500l/s
–干式渦旋泵,不小于35m3/h
相關(guān)分類
該廠商的其他產(chǎn)品
- FPESI-E3511 晶圓灰化系統(tǒng)
- FPMVP-MVP900 大型自動(dòng)光學(xué)檢測系統(tǒng)AOI,晶圓光學(xué)jian測
- FPMIR-MV-9 3D自動(dòng)光學(xué)檢測系統(tǒng),AOI,SMT半導(dǎo)體
- FPEH-MX10x 晶圓厚度變化測量儀
- FPEH-MX70X 晶圓翹曲度測量儀
- FPEH-Robot Sorter 晶圓分揀機(jī)器人,自動(dòng)晶圓fen揀機(jī)
- FPEH+beltsorter 帶式晶圓分選機(jī),硅片分選
- FPMVP-MVP900 自動(dòng)光學(xué)檢測系統(tǒng)AOI,晶圓,引線鍵合檢測