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          實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備

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                江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以 高檔專業(yè)的實(shí)驗(yàn)室儀器開(kāi)發(fā)為目標(biāo)的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。公司主營(yíng)高檔實(shí)驗(yàn)室儀器及半導(dǎo)體設(shè)備開(kāi)發(fā)業(yè)務(wù)。公司技術(shù) 力量雄厚,人才濟(jì)濟(jì),憑借雄厚的技術(shù)實(shí)力不斷進(jìn)行新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和創(chuàng)新實(shí)現(xiàn), 在納米薄膜制備類儀器領(lǐng)域取得了顯著的市場(chǎng)地位。公司生產(chǎn)的高精度高可 靠性勻膠機(jī)榮獲江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品,是國(guó)內(nèi)勻膠機(jī)全系列、多功能、定制 化服務(wù)的供應(yīng)商

                公司生產(chǎn)和銷售不同領(lǐng)域的高檔科研儀器和工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、 烤膠機(jī)、提拉機(jī)、噴膠機(jī)、涂膜機(jī)、狹縫涂布機(jī)等相關(guān)產(chǎn)品;L EB O science®是我們的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、 去膠機(jī)、清洗機(jī)等獨(dú)立柜式機(jī)臺(tái)及工業(yè)全自動(dòng)機(jī)臺(tái)。 公司產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能、有機(jī)光 電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導(dǎo)體及先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,具有核心技 術(shù)可靠、高性價(jià)比、定制化服務(wù)的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

           

          勻膠機(jī)、顯影機(jī)、烤膠機(jī)、刻蝕機(jī)、清洗機(jī)

          產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 5萬(wàn)-10萬(wàn)
          應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電氣,綜合
           
            實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備采用封閉的系統(tǒng)框架,外觀漂亮,使用安全。4~12組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等,特別適合OPV/鈣鈦礦/無(wú)機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。
            
            主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì):
           
            ★     封閉的系統(tǒng)框架設(shè)計(jì),外觀更漂亮,使用更安全;是一臺(tái)兼具美學(xué)和用戶操控體驗(yàn)的全新升級(jí)產(chǎn)品;
           
            ★     前開(kāi)門真空腔體,方便取放基片、更換蒸發(fā)舟、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù);
           
            ★     1200L/s分子泵作為主抽泵,真空極限高達(dá)8×10-5Pa(6×10-7Torr);另可選進(jìn)口磁懸浮分子泵或者低溫泵作為主抽泵,真空極限高達(dá)3×10-6Pa(2×10-8Torr);
           
            ★     4~12組水冷式蒸發(fā)電極,可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì),源間有防止交叉污染隔板;
           
            ★     專業(yè)真空蒸發(fā)電源,恒流/恒功率控制。電流、功率可以預(yù)先設(shè)置,可實(shí)現(xiàn)一鍵啟動(dòng)和停止的自動(dòng)控制功能;
           
            ★     最大140mm基片/15~25mm ITO/FTO玻璃25片/球形樣品架,可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;基片臺(tái)公轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0~25rpm連續(xù)可調(diào);
           
            ★     襯底可選擇加熱或水冷,源基距最大350mm;
           
            ★     更優(yōu)的薄膜均勻性和重復(fù)性,采用進(jìn)口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測(cè)和控制蒸發(fā)速率、膜厚;
           
            ★     可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
           
            ★     設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小(1.28平米);設(shè)備配腳輪,方便移動(dòng)和定位。
           


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